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Photomask and X-Ray Mask Technology II
Photomask and X-Ray Mask Technology II
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1.
Delay time stable chemically amplified e-beam negative tone resist for optical mask a
机译:
光学掩模A的延迟时间稳定的化学放大电子束负性光刻胶
作者:
Seiya Masuda
;
Hoechst Industry Ltd.
;
Kawagoe City
;
Saitama
;
Japan
;
Gerhard Pawlowski
;
Hoechst Industry Ltd.
;
Kawagoe
;
Saitama
;
Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
2.
Application of chemically amplified resists to photomask fabrication,
机译:
化学放大抗蚀剂在光掩模制造中的应用,
作者:
Masumi Arai
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Kamifukuoka-shi
;
Saitama
;
Japan
;
Hiroyuki Inomata
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Shinjuku-ku
;
Tokyo
;
Japan
;
Toshiharu Nishimura
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Saitama
;
Japan
;
Masa-aki Kurihara
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Kamifukuoka
;
Saitama
;
Japan
;
Naoya Hayashi
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Fukuoka-shi
;
Saitama
;
Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
3.
SEMI standards programmed defect masks and their a
机译:
SEMI标准编程的缺陷掩膜及其
作者:
Hiroichi Kawahira
;
Sony Corp.
;
Atsugi
;
Kanagawa
;
Japan
;
Yoshiki Suzuki
;
KLA Japan Ltd.
;
Yokohama
;
Kanagawa
;
Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
4.
Quality control of embedded-type phase-shift mask
机译:
嵌入式相移掩模的质量控制
作者:
Yoshiro Yamada
;
Toppan Printing Co.
;
Ltd.
;
Omiya
;
Saitama
;
Japan
;
Kazuo Chiba
;
Toppan Printing Co.
;
Ltd.
;
Niiza-shi
;
Saitama
;
Japan
;
Eisei Karikawa
;
Toppan Printing Co.
;
Ltd.
;
Niiza-shi
;
Saitama
;
Japan
;
Masahiro Unno
;
Toppan Printing Co.
;
Ltd.
;
Niiza-shi
;
Saitama
;
Japan
;
Yasutaka Kikuchi
;
Toppan Printing Co.
;
Ltd.
;
Niiza-shi
;
Saitama
;
Japan
;
Katsuhiro Kinemura
;
Toppan Printing Co.
;
Ltd.
;
Niiza-shi
;
Saitama
;
Japan
;
Masao Otaki
;
Toppan Printing Co.
;
Ltd.
;
Minami-Saitama
;
Saitama-ken
;
Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
5.
ZBA31: an advanced mask writer meeting the demands of the 1-gigabit DRAM generation
机译:
ZBA31:满足1 GB DRAM一代需求的高级掩模写入器
作者:
Christian Ehrlich
;
Jenoptik Technologie GmbH
;
Jena
;
Federal Republic of Germany
;
Olaf Fortagne
;
Jenoptik Technologie GmbH
;
Jena
;
Federal Republic of Germany
;
Peter Hahmann
;
Jenoptik Technologie GmbH
;
Jena
;
Federal Republic of Germany.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
6.
Die-to-database defect detection for reticles of 64- and 256-Mbit DRAMs
机译:
管芯到数据库的缺陷检测,用于64和256 Mbit DRAM的标线
作者:
Yair Eran
;
Orbot Instruments Ltd.
;
Yavne
;
Israel
;
Gadi Greenberg
;
Orbot Instruments Ltd.
;
Yavne
;
Israel
;
Gideon Rossman
;
Orbot Instruments
;
Setagaya-ku
;
Tokyo
;
Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
7.
Mask-/reticle-making control system
机译:
口罩/光罩制作控制系统
作者:
Satoshi Araihara
;
Fujitsu Ltd.
;
Kawasaki
;
Kanagawa
;
Japan
;
Satoshi Akutagawa
;
Fujitsu Ltd.
;
Kawasaki
;
Kanagawa
;
Japan
;
Itaru Sakai
;
Fujitsu VLSI Ltd.
;
Kasagai-shi
;
Aichi
;
Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
8.
Consideration of chemical bond configurations for radiation-hard UHV ECR-CVD SiNx x-ray mask membrane
机译:
考虑抗辐射的特硬UHV ECR-CVD SiNx X射线掩模膜的化学键构型
作者:
Jinho Ahn
;
NEC Corp.
;
Tsukuba-shi
;
Ibaraki
;
Japan
;
Katsumi Suzuki
;
NEC Corp.
;
Tsukuba-shi
;
Ibaraki
;
Japan
;
Shinji Tsuboi
;
Sortec Corp.
;
Tsukuba-shi
;
Ibaraki
;
Japan
;
Yoshio Yamashita
;
Sortec Corp.
;
Tsukuba-shi
;
Ibaraki
;
Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
9.
Development of a W/Si thin film for the single-layered attenuated phase-shifting mask for 248-nm lithography
机译:
用于248 nm光刻的单层衰减相移掩模的W / Si薄膜的开发
作者:
Hideaki Mitsui
;
Hoya Corp.
;
Akishima-shi
;
Tokyo
;
Japan
;
Hiroyuki Sakai
;
Hoya Corp.
;
Akishima-shi
;
Tokyo
;
Japan
;
Yoh-ichi Yamaguchi
;
Hoya Corp.
;
Akishima-shi
;
Tokyo
;
Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
10.
Reflection masks for soft x-ray projection lithography
机译:
用于软X射线投影光刻的反射罩
作者:
Masaaki Ito
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kokubunji
;
Tokyo
;
Japan
;
Takashi Soga
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kokubunji
;
Tokyo
;
Japan
;
Hiromasa Yamanashi
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kokubunji
;
Tokyo
;
Japan
;
Taro Ogawa
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kokubunji
;
Tokyo
;
Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
11.
Sub 0.1 um ArF excimer laser lithography with alternating phase-shifting masks
机译:
具有交替相移掩模的0.1μm以下ArF准分子激光光刻
作者:
Jun Ushioda
;
NEC Corp.
;
Kawasaki-shi
;
Kanagawa
;
Japan
;
Yuko Seki
;
NEC Corp.
;
Miyamae-ku
;
Kawasaki-shi
;
Kanagawa
;
Japan
;
Hiroyoshi Tanabe
;
NEC Corp.
;
Kawasaki-shi
;
Japan
;
Yukio Ogura
;
NEC Corp.
;
Miyamae-ku
;
Kawasaki
;
Japan
;
Katsumi Maeda
;
NEC Corp.
;
Miyamae-ku
;
Kawasaki
;
Japan
;
Takeshi Ohfuji
;
NEC Corp.
;
Sagamihara
;
Kanagawa
;
Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
12.
X-ray mask fabrication process
机译:
X射线掩膜制作工艺
作者:
Gregory M. Wells
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Michael T. Reilly
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Frederick T. Moore
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Franco Cerrina
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Kuniaki Yamazaki
;
Nippon Motorola
;
Ltd.
;
Sendai-shi
;
Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
13.
Amorphous stuctured Ta4B absorber on SiC membrane for x-ray mask
机译:
用于X射线掩模的SiC膜上的非晶结构Ta4B吸收剂
作者:
Tsutomu Shoki
;
Hoya Corp.
;
Akishima-shi
;
Tokyo
;
Japan
;
Ryou Ohkubo
;
Hoya Corp.
;
Akishima-shi
;
Tokyo
;
Japan
;
Gregory M. Wells
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Yoh-ichi Yamaguchi
;
Hoya Corp.
;
Akishima-shi
;
Tokyo
;
Japan
;
Kuniaki Yamazaki
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Franco Cerrina
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
14.
Repairing x-ray masks with Ta absorbers using focused ion beams
机译:
使用聚焦离子束用Ta吸收剂修复X射线掩模
作者:
Ikuo Okada
;
NTT LSI Labs.
;
Atsugi-shi
;
Kanagawa
;
Japan
;
Yasunao Saitoh
;
NTT LSI Labs.
;
Atsugi-shi
;
Kanagawa
;
Japan
;
Takashi Ohkubo
;
NTT Advanced Technology Corp.
;
Atsugi-shi
;
Kanagawa
;
Japan
;
Misao Sekimoto
;
NTT LSI Labs.
;
Atsugi-shi
;
Kanagawa
;
Japan
;
Tadahito Matsuda
;
NTT LSI Labs.
;
Atsugi-shi
;
Kanagawa
;
Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
15.
Sizing the next generation of optical photomasks
机译:
调整下一代光学光罩的尺寸
作者:
Gilbert V. Shelden
;
SEMATECH
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Anne Rudack
;
SEMATECH
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Rajeev R. Singh
;
SEMATECH
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Wayne Smith
;
SEMATECH
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Alvina Williams
;
SEMATECH
;
Austin
;
TX
;
USA.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
16.
Development of EB lithography system for next generation photomasks
机译:
开发用于下一代光掩模的EB光刻系统
作者:
Tadashi Komagata
;
JEOL
;
Ltd.
;
Akishima
;
Tokyo
;
Japan
;
Hitoshi Takemura
;
JEOL
;
Ltd.
;
Akishima
;
Tokyo
;
Japan
;
N.Gotoh
;
JEOL
;
Ltd.
;
Akishima
;
Tokyo
;
Japan
;
Kazumitsu Tanaka
;
JEOL
;
Ltd.
;
Tokyo
;
Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
17.
Improved photomask metrology through exposure emulation
机译:
通过曝光仿真改善光掩模计量
作者:
James E. Potzick
;
National Institute of Standards
;
Technology
;
Gaithersburg
;
MD
;
USA.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
18.
Performance improvement in electron-beam reticle writing system
机译:
电子束掩模版写入系统的性能改进
作者:
Hirohito Anze
;
Toshiba Corp.
;
Saiwai-ku
;
Kawasaki-shi
;
Japan
;
Satoshi Yamasaki
;
Toshiba Corp.
;
Saiwai-ku
;
Kawasaki-shi
;
Japan
;
Shuichi Tamamushi
;
Toshiba Corp.
;
Saiwai-ku
;
Kawasaki
;
Japan
;
Yoji Ogawa
;
Toshiba Corp.
;
Saiwai-ku
;
Kawasaki
;
Japan
;
Eiji Murakami
;
Toshiba Corp.
;
Saiwai-ku
;
Kawasaki
;
Japan
;
Ryoichi Hirano
;
Toshiba Corp.
;
Saiwai-ku
;
Atsugi-shi
;
Japan
;
Kazuto Matsuki
;
Toshiba Corp.
;
Saiwai-ku
;
Atsugi-shi
;
Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
19.
Reticle flexure influence on pattern positioning accuracy for reticle writing
机译:
掩模版挠曲对掩模版写入图案定位精度的影响
作者:
Ryoichi Hirano
;
Toshiba Corp.
;
Saiwai-ku
;
Atsugi-shi
;
Japan
;
Kazuto Matsuki
;
Toshiba Corp.
;
Saiwai-ku
;
Atsugi-shi
;
Japan
;
Shusuke Yoshitake
;
Toshiba Corp.
;
Saiwai-ku
;
Kawasaki
;
Japan
;
Yoshihiko Takahashi
;
Toshiba Corp.
;
Saiwai-ku
;
Kawasaki
;
Japan
;
Shuichi Tamamushi
;
Toshiba Corp.
;
Saiwai-ku
;
Kawasaki
;
Japan
;
Yoji Ogawa
;
Toshiba Corp.
;
Saiwai-ku
;
Kawasaki
;
Japan
;
Toru Tojo
;
Toshiba Corp.
;
Kawasaki-City
;
Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
20.
Study of SiC x-ray mask distortion induced by backetching receding subtractive fabrication process
机译:
回蚀后退减法制造工艺引起的SiC x射线掩模畸变的研究
作者:
Shinji Tsuboi
;
Sortec Corp.
;
Tsukuba-shi
;
Ibaraki
;
Japan
;
Tsutomu Shoki
;
Hoya Corp.
;
Akishima-shi
;
Tokyo
;
Japan
;
Tsuneaki Ohta
;
Oki Electric Industry Co.
;
Ltd.
;
Hachioji-shi
;
Tokyo
;
Japan
;
Hiroshi Okuyama
;
Sortec Corp.
;
Ibaraki
;
Japan
;
Kinya Ashikaga
;
Sortec Corp.
;
Ibaraki
;
Japan
;
Yoshio Yamashita
;
Sortec Corp.
;
Tsukuba-shi
;
Ibaraki
;
Japan
;
Ryou Ohkubo
;
Hoya Corp.
;
Akishima-shi
;
Tokyo
;
Japan
;
Yoh-ichi Yamaguchi
;
Hoya Corp.
;
Akishima-shi
;
Tokyo
;
Japan
;
Hiroshi Hoga
;
Oki Electric Industry Co.
;
Ltd.
;
Hachioji-shi
;
Tokyo
;
Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
21.
ZEP resist process for high-accuracy photomask with a dry-etching capability
机译:
ZEP抗蚀剂工艺用于具有干蚀刻功能的高精度光掩模
作者:
Hideki Tarumoto
;
Mitsubishi Electric Corp.
;
Itami-shi
;
Hyogo
;
Japan
;
Kazuyuki Maetoko
;
Mitsubishi Electric Corp.
;
Hyogo
;
Japan
;
S.Yamashita
;
Mitsubishi Electric Corp.
;
Itami-shi
;
Hyogo
;
Japan
;
Satoshi Aoyama
;
Mitsubishi Electric Corp.
;
Itami-shi
;
Hyogo
;
Japan
;
Hiroaki Morimoto
;
Mitsubishi Electric Corp.
;
Itami
;
Hyogo
;
Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
22.
Electrical characterization of across-field lithographic performance for 256-Mbit DRAM technologies
机译:
256 Mb DRAM技术的跨场光刻性能的电学表征
作者:
Junichiro Iba
;
Toshiba Corp. (Japan)
;
Hopewell Junction
;
NY
;
USA
;
Koji Hashimoto
;
Toshiba Corp. (Japan)
;
Hopewell Junction
;
NY
;
USA
;
Richard A. Ferguson
;
IBM Corp.
;
Hopewell Junction
;
NY
;
USA
;
Toshiaki Yanagisawa
;
IBM Corp.
;
Hopewell Junction
;
NY
;
USA
;
Donald J. Samuels
;
IBM Corp.
;
Yorktown Heights
;
NY
;
USA.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
23.
Evaluation of shifter edge shape on attenuated phase-shifting mask
机译:
在衰减相移掩模上评估移位器边缘形状
作者:
Taro Saito
;
Oki Electric Industry Co.
;
Ltd.
;
Hachioji-shi
;
Tokyo
;
Japan
;
Hideyuki Jinbo
;
Oki Electric Industry Co.
;
Ltd.
;
Hachioji-shi
;
Tokyo
;
Japan
;
K.Yano
;
Oki Electric Industry Co.
;
Ltd.
;
Hachioji-shi
;
Tokyo
;
Japan
;
Seki Suzuki
;
Oki Electric Industry Co.
;
Ltd.
;
Hachioji-shi
;
Tokyo
;
Japan
;
Yoshio Tanaka
;
Oki Electric Industry Co.
;
Ltd.
;
Hachioji-shi
;
Tokyo
;
Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
24.
Lithographic performance of SiNx single-layer halftone mask
机译:
SiNx单层半色调掩模的光刻性能
作者:
Kenji Kawano
;
Toshiba Research
;
Development Ctr.
;
Saiwai-ku
;
Kawasaki-shi
;
Japan
;
M.Asano
;
Toshiba Research
;
Development Ctr.
;
Saiwai-ku
;
Kawasaki-shi
;
Japan
;
Satoshi Tanaka
;
Toshiba Research
;
Development Ctr.
;
Kawasaki
;
Kanagawa
;
Japan
;
T.Iwamatsu
;
Toshiba Research
;
Development Ctr.
;
Saiwai-ku
;
Kawasaki
;
Japan
;
Hiroyuki Sato
;
Toshiba Research
;
Development Ctr.
;
Saiwai-ku
;
Kawasaki
;
Japan
;
Shinichi Ito
;
Toshiba Research
;
Development Ctr.
;
Saiwai-ku
;
Kawasaki
;
Kanagawa
;
Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
25.
New phase-shifting mask technology for quarter-micron photolithography
机译:
用于四分之一微米光刻的新相移掩模技术
作者:
Yoshihiko Okamoto
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kodaira-shi
;
Tokyo
;
Japan
;
Kazuhiro Gyoda
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kodaira-shi
;
Tokyo
;
Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
26.
New technique for repairing opaque defects
机译:
修复不透明缺陷的新技术
作者:
Kazuo Aita
;
Seiko Instruments Inc.
;
Sunto-gun
;
Shizuoka
;
Japan
;
Yoshihiro Koyama
;
Seiko Instruments Inc.
;
Sunto-gun
;
Shizuoka
;
Japan
;
Hiroshi Matsumura
;
Seiko Instruments Inc.
;
Sunto-gun
;
Shizuoka
;
Japan
;
Takashi Kaito
;
Seiko Instruments Inc.
;
Sunto-gun
;
Shizuoka
;
Japan
;
Yasushi Satoh
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Chiyoda-ku
;
Tokyo
;
Japan
;
Katsuhide Tsuchiya
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Saitama
;
Japan
;
Shigeru Noguchi
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Kamifukuoka-Shi
;
Saitama-Ken
;
Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
27.
One-point wafer bonding for highly accurate x-ray masks
机译:
单点晶圆键合,用于高精度X射线掩模
作者:
M.Oda
;
NTT Advanced Technology Corp.
;
Atsugi-shi
;
Kanagawa
;
Japan
;
Takashi Ohkubo
;
NTT Advanced Technology Corp.
;
Atsugi-shi
;
Kanagawa
;
Japan
;
Hideo Yoshihara
;
NTT Advanced Technology Corp.
;
Atsugi-shi
;
Kanagawa
;
Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
28.
Effect of off-axis illumination on the printability of opaque and transparent reticle defects
机译:
离轴照明对不透明和透明掩模版缺陷可印刷性的影响
作者:
James N. Wiley
;
KLA Instruments Corp.
;
Menlo Park
;
CA
;
USA
;
Linard Karklin
;
LK Consulting
;
Sunnyvale
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
29.
Investigation and improvement of patterning characteristics for annular illumination optical lithography at the periodical pattern ends
机译:
周期性图案末端环形照明光刻的图案特性研究与改进
作者:
Toshiyuki Horiuchi
;
NTT LSI Labs.
;
Atsugi-shi
;
Kanagawa
;
Japan
;
Katsuhiro Harada
;
NTT LSI Labs.
;
Atsugi-shi
;
Kanagawa
;
Japan
;
Yoshinobu Takeuchi
;
NTT LSI Labs.
;
Atsugi-shi
;
Kanagawa
;
Japan
;
Yoshiaki Mimura
;
NTT LSI Labs.
;
Atsugi-shi
;
Kanagawa
;
Japan
;
Emi Tamechika
;
NTT LSI Labs.
;
Atsugi-shi
;
Kanagawa
;
Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
30.
Photomask cleaning for high-density and embedded PSM
机译:
用于高密度和嵌入式PSM的光掩模清洁
作者:
Cheol Shin
;
Dupont Photomasks
;
Ichon-kun
;
Kyunggi-do
;
South Korea
;
Yung-Sung Son
;
Dupont Photomasks
;
Ichon-Kun
;
Kyoungki-Do
;
South Korea
;
Ki J. Kim
;
Dupont Photomasks
;
Ichon-kun
;
Kyunggi-do
;
South Korea.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
31.
Photomasks today and tomorrow
机译:
今天和明天的光罩
作者:
Geoffrey M. Akiki
;
IBM Microelectronics Div.
;
Essex Junction
;
VT
;
USA.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
32.
Ultrahigh-precision metrology on masks for 0.25 um device generation
机译:
面罩上的超高精度计量,可产生0.25 um的器件
作者:
Klaus-Dieter Roth
;
Leica Mikroskopie und Systeme GmbH
;
Wetzlar
;
Federal Republic of Germany
;
Carola Blaesing-Bangert
;
Leica Mikroskopie und Systeme GmbH
;
Wetzlar
;
Federal Republic of Germany.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
33.
Application of phase-shift mask to GaAs IC fabrication process
机译:
相移掩模在GaAs IC制造工艺中的应用
作者:
Author(s): Yoshiki Kojima Mitsubishi Electric Corp. Itami-shi Hyogo Japan
;
Mitsunori Nakatani Mitsubishi Electric Corp. Hyogo Japan
;
Hirofumi Nakano Mitsubishi Electric Corp. Hyogo Japan
;
Kazuya Kamon Mitsubishi Electric Corp. Itami-shi Hyogo Japan
;
Kazuhiko Sato Mitsubishi Electric Corp. Itami Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
34.
Comprehensive metrology-detection strategies for sub-0.5um lithography reticles
机译:
小于0.5um光刻掩模版的全面计量检测策略
作者:
Mircea V. Dusa
;
Technical Instrument Co.
;
San Jose
;
CA
;
USA
;
Linard Karklin
;
LK Consulting
;
Sunnyvale
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
35.
Development and evaluation of chromium-based attenuated phase-shift masks for DUV exposure
机译:
用于DUV曝光的基于铬的衰减相移掩模的开发和评估
作者:
Koichi Mikami
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Kamifukuoka
;
Saitama
;
Japan
;
Hiroshi Mohri
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Fukuoka-shi
;
Saitama
;
Japan
;
Hiroyuki Miyashita
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Kamifukuoka-shi
;
Saitama
;
Japan
;
Naoya Hayashi
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Fukuoka-shi
;
Saitama
;
Japan
;
Hisatake Sano
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Kamifukuoka-shi
;
Saitama
;
Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
36.
High-precision EB technology with thin EB resist and distortion-free mask holder for x-ray mask fabrication
机译:
高精度EB技术,具有薄的EB抗蚀剂和用于X射线光罩制造的无变形光罩支架
作者:
Shuichi Noda
;
Oki Electric Industry Co.
;
Ltd.
;
Hachioji-shi
;
Tokyo
;
Japan
;
Hiroshi Hoga
;
Oki Electric Industry Co.
;
Ltd.
;
Hachioji-shi
;
Tokyo
;
Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
37.
Advanced mask fabrication system
机译:
先进的掩模制造系统
作者:
Tadahiro Takigawa
;
Toshiba Corp.
;
Saiwai-ku
;
Kawasaki
;
Japan
;
Toru Tojo
;
Toshiba Corp.
;
Kawasaki-City
;
Japan
;
Yoji Ogawa
;
Toshiba Corp.
;
Saiwai-ku
;
Kawasaki
;
Japan
;
K.Koyama
;
Toshiba Corp.
;
Saiwai-ku
;
Kawasaki
;
Kanagawa
;
Japan
;
Akira Ono
;
Toshiba Corp.
;
Yokohama
;
Japan
;
S.M. Inoue
;
Toshiba Corp.
;
Sawai-ku
;
Kawasaki
;
Japan
;
Shinichi Ito
;
Toshiba Corp.
;
Saiwai-ku
;
Kawasaki
;
Kanagawa
;
Japan
;
Mineo Goto
;
Toshiba Corp.
;
Saiwai-ku
;
Kawasaki-shi
;
Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
38.
Recent advances in mask making technology at ATT
机译:
AT&T口罩制造技术的最新进展
作者:
Regine G. Tarascon
;
ATT Bell Labs.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
39.
Analysis of pattern shift error for mask clamping measured by Nikon XY-31
机译:
尼康XY-31测量的掩模夹持图案偏移误差分析
作者:
Shusuke Yoshitake
;
Toshiba Corp.
;
Saiwai-ku
;
Kawasaki
;
Japan
;
Kazuto Matsuki
;
Toshiba Corp.
;
Saiwai-ku
;
Atsugi-shi
;
Japan
;
Satoshi Yamasaki
;
Toshiba Corp.
;
Saiwai-ku
;
Kawasaki-shi
;
Japan
;
Ryoichi Hirano
;
Toshiba Corp.
;
Saiwai-ku
;
Atsugi-shi
;
Japan
;
Shuichi Tamamushi
;
Toshiba Corp.
;
Saiwai-ku
;
Kawasaki
;
Japan
;
Yoji Ogawa
;
Toshiba Corp.
;
Saiwai-ku
;
Kawasaki
;
Japan
;
Toru Tojo
;
Toshiba Corp.
;
Kawasaki-City
;
Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
40.
EB proximity effect correction system for 0.25-um device reticle fabrication
机译:
用于0.25um器件掩模版制造的EB邻近效应校正系统
作者:
Manabu Tomita
;
Sony Corp.
;
Atsugi-shi
;
Kanagawa
;
Japan
;
Hidetosi Ohnuma
;
Sony Corp.
;
Atsugi-shi
;
Kanagawa
;
Japan
;
Masaaki Koyama
;
Sony Corp.
;
Atsugi-shi
;
Kanagawa
;
Japan
;
Hiroichi Kawahira
;
Sony Corp.
;
Atsugi
;
Kanagawa
;
Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
41.
Evaluation of CD metrology tools for photomasks for 0.25-um devices
机译:
评估用于0.25um器件的光掩模的CD计量工具
作者:
Hiroshi Fujita
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Kamifukuoka-shi
;
Saitama
;
Japan
;
Shiho Sasaki
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Kamifukuoka-shi
;
Saitama
;
Japan
;
Hiroyuki Miyashita
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Kamifukuoka-shi
;
Saitama
;
Japan
;
Naoya Hayashi
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Fukuoka-shi
;
Saitama
;
Japan
;
Hisatake Sano
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Kamifukuoka-shi
;
Saitama
;
Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
42.
Fully automated mask/reticle production factory
机译:
全自动光罩/光罩生产工厂
作者:
Osamu Tsubakida
;
Fujitsu Ltd.
;
Kuwana-gun
;
Mie
;
Japan
;
T.Ban
;
Fujitsu Ltd.
;
Kuwana-gun
;
Mie
;
Japan
;
T.Kojima
;
Fujitsu Ltd.
;
Kuwana-gun
;
Mie
;
Japan
;
Akira Morishige
;
Fujitsu Ltd.
;
Kawasaki
;
Kanagawa
;
Japan
;
T.Yoshizawa
;
Fujitsu Ltd.
;
Kuwana-gun
;
Mie
;
Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
43.
High-speed mask EB graphical image browser
机译:
高速蒙版EB图形图像浏览器
作者:
Robert Veltman
;
Sony Corp.
;
Atsugi-shi
;
Kanagawa
;
Japan
;
Itsuji Ashida
;
Sony Corp.
;
Hachioji-shi
;
Tokyo
;
Japan
;
Kunihiko Tsuboi
;
Sony Corp.
;
Atsugi-shi
;
Kanagawa
;
Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
44.
Integrated reviewing system for defect inspection
机译:
综合缺陷检查系统
作者:
Ming-Huei Lin
;
Taiwan Mask Corp.
;
Hsinchu
;
Taiwan
;
Sheng-Chung Kuo
;
Taiwan Mask Corp.
;
Hsinchu
;
Taiwan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
45.
Mask metrology system XY-5i for 256-Mbit DRAM
机译:
用于256 Mb DRAM的掩模计量系统XY-5i
作者:
Eiji Matsubara
;
Nikon Corp.
;
Shinagawa-ku
;
Tokyo
;
Japan
;
Yoshihisa Fujita
;
Nikon Corp.
;
Shinagawa-ku
;
Tokyo
;
Japan
;
Taro Ototake
;
Nikon Corp.
;
Shinagawa-ku
;
Tokyo
;
Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
46.
Methods of error source identification and process optimization for photomask manufacturing
机译:
光掩模制造中误差源识别和工艺优化的方法
作者:
Mark D. Cerio
;
DuPont Photomasks
;
Inc.
;
Round Rock
;
TX
;
USA.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
47.
Phase-shifting masks for giga-scale ULSI
机译:
千兆级ULSI的相移掩模
作者:
Akira n. Imai
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kokubunji
;
Tokyo
;
Japan
;
Tsuneo Terasawa
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kokubunji
;
Tokyo
;
Japan
;
Norio Hasegawa
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kokubunji
;
Tokyo
;
Japan
;
Naoko Asai
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kokubunji
;
Tokyo
;
Japan
;
Toshihiko P. Tanaka
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kokubunji
;
Tokyo
;
Japan
;
Shinji Okazaki
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kokubunji
;
Tokyo
;
Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
48.
Current technological status of spatial filtering method for soft defect detection
机译:
软缺陷检测空间滤波方法的技术现状
作者:
Tsuneyuki Hagiwara
;
Nikon Corp.
;
Shinagawa-ku
;
Tokyo
;
Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
49.
Dependency of side-lobe effect of half-tone phase-shift mask on substrate material and topology and its solutions
机译:
半音相移掩模的旁瓣效应对衬底材料和拓扑的依赖性及其解决方案
作者:
Sung-Chul Lim
;
Samsung Electronics Co.
;
Ltd.
;
Yongin-Gun
;
Kyungki-Do
;
South Korea
;
Sang-Gyun Woo
;
Samsung Electronics Co.
;
Ltd.
;
Yongin-gun
;
Kyungki-do
;
South Korea
;
Woo-Sung Han
;
Samsung Electronics Co.
;
Ltd.
;
Kiheung-Eup Yongin-Gun
;
Kyungki-Do
;
South Korea
;
Young-Bum Koh
;
Samsung Electronics Co.
;
Ltd.
;
Kiheung-Eup Yongin-Gun
;
Kyungki-Do
;
South Korea
;
Moon-Yong Lee
;
Samsung Electronics Co.
;
Ltd.
;
Kiheung-Eup Yongin-Gun
;
Kyungki-Do
;
South Korea.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
50.
Fast-resist image estimation methodology using light-intensity distribution
机译:
利用光强度分布的快速抗蚀剂图像估计方法
作者:
Keisuke Tsudaka
;
Sony Corp.
;
Atsugi
;
Kanagawa
;
Japan
;
Manabu Tomita
;
Sony Corp.
;
Atsugi-shi
;
Kanagawa
;
Japan
;
Minoru Sugawara
;
Sony Corp.
;
Atsugi-shi
;
Kanagawa
;
Japan
;
Hiroichi Kawahira
;
Sony Corp.
;
Atsugi
;
Kanagawa
;
Japan
;
Satoru Nozawa
;
Sony Corp.
;
Atsugi-shi
;
Kanagawa
;
Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
51.
Mask-holding mechanism for an e-beam x-ray mask writer
机译:
电子束X射线口罩书写器的口罩固定机构
作者:
Tatsuya Kunioka
;
NTT LSI Labs.
;
Atsugi-shi
;
Kanagawa
;
Japan
;
Nobuo Shimazu
;
NTT LSI Labs.
;
Atsugi-shi
;
Kanagawa
;
Japan
;
Akira Shimizu
;
NTT LSI Labs.
;
Atsugi-shi
;
Kanagawa
;
Japan
;
Tomoaki Sakai
;
NTT LSI Labs.
;
Atsugi-shi
;
Kanagawa
;
Japan
;
Youichi Kuriyama
;
NTT LSI Labs.
;
Atsugi-shi
;
Kanagawa
;
Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
52.
Optical proximity correction for super-resolution technique
机译:
光学接近度校正,用于超分辨率技术
作者:
Kazuya Kamon
;
Mitsubishi Electric Corp.
;
Itami-shi
;
Hyogo
;
Japan
;
Wataru Wakamiya
;
Mitsubishi Electric Corp.
;
Itami
;
Hyogo
;
Japan
;
Hitoshi Nagata
;
Mitsubishi Electric Corp.
;
Itami City
;
Hyogo
;
Japan
;
Koichi Moriizumi
;
Mitsubishi Electric Corp.
;
Hyogo-ken
;
Japan
;
Teruo Miyamoto
;
Mitsubishi Electric Corp.
;
Itami-shi
;
Hyogo
;
Japan
;
Yasuhito Myoi
;
Mitsubishi Electric Corp.
;
Amagasaki-shi
;
Hyogo
;
Japan
;
Masaaki Tanaka
;
Mitsubishi Electric Corp.
;
Amagasaki-shi
;
Hyogo
;
Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
53.
Printability of laser mask repairs at deep UV
机译:
激光掩模在深紫外线下的可印刷性
作者:
James A. Reynolds
;
Reynolds Consulting
;
Sunnyvale
;
CA
;
USA
;
Franklin M. Schellenberg
;
Hewlett-Packard Labs.
;
Austin
;
TX
;
USA.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
54.
Pellicles designed for high-performance lithographic processes
机译:
专为高性能光刻工艺设计的薄膜
作者:
Joseph S. Gordon
;
DuPont Photomasks
;
Inc.
;
Danbury
;
CT
;
USA.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
55.
248-nm DUV MoSiON embedded phase-shifting mask for 0.25 micrometer lithography
机译:
用于0.25微米光刻的248 nm DUV MoSiON嵌入式相移掩模
作者:
Giang T. Dao
;
Intel Corp.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
Gang Liu
;
Intel Corp.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
Robert F. Hainsey
;
Intel Corp.
;
Aloha
;
OR
;
USA
;
Jeff N. Farnsworth
;
Intel Corp.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
Yasuo Tokoro
;
Ulvac Coating Corp.
;
Chichibu-shi
;
Saitama
;
Japan
;
Susumu Kawada
;
Ulvac Coating Corp.
;
Chichibu-shi
;
Saitama
;
Japan
;
Tsuneo Yamamoto
;
Ulvac Coating Corp.
;
Chichibu-shi
;
Saitama
;
Japan
;
Nobuyuki Yoshioka
;
Mitsubishi Electric Corp.
;
Itami-shi
;
Hyogo
;
Japan
;
Akira Chiba
;
Mitsubishi Electric Corp.
;
Itami-shi
;
Hyogo
;
Japan
;
Hiroaki Morimoto
;
Mitsubishi Electric Corp.
;
Itami
;
Hyogo
;
Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
56.
Pellicle vs. influence of clean-room environments
机译:
薄膜与洁净室环境的影响
作者:
Naofumi Inoue
;
Mitsui Petrochemical Industries
;
Ltd.
;
Chuo-ku
;
Tokyo
;
Japan
;
Hiroaki Nakagawa
;
Mitsui Petrochemical Industries
;
Ltd.
;
Chuo-ku
;
Tokyo
;
Japan
;
Masahiro Kondou
;
Mitsui Petrochemical Industries
;
Ltd.
;
Chuo-ku
;
Tokyo
;
Japan
;
Masanori Kitajima
;
Mitsui Petrochemical Industries
;
Ltd.
;
Chuo-ku
;
Tokyo
;
Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
57.
Preliminary methodology investigation of mask pattern fidelity for 250-nm design rules
机译:
250纳米设计规则的掩模图案保真度的初步方法研究
作者:
Thomas P. Coleman
;
Etec Systems
;
Inc.
;
San Francisco
;
CA
;
USA
;
Charles A. Sauer
;
Etec Systems
;
Inc.
;
Hayward
;
CA
;
USA
;
Robert J. Naber
;
Etec Systems
;
Inc.
;
Hayward
;
CA
;
USA
;
Henry C. Hamaker
;
Etec Systems
;
Inc.
;
Beaverton
;
OR
;
USA.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
58.
State of the art in focused ion-beam mask repair systems
机译:
聚焦离子束掩模修复系统的最新技术
作者:
Diane K. Stewart
;
Micrion Corp.
;
Peabody
;
MA
;
USA
;
John A. Doherty
;
Micrion Corp.
;
Peabody
;
MA
;
USA
;
Andrew F. Doyle
;
Micrion Corp.
;
Peabody
;
MA
;
USA
;
John C. Morgan
;
Micrion Corp.
;
Peabody
;
MA
;
USA.
会议名称:
《》
|
1995年
59.
Application of chemically amplified resists to photomask fabrication
机译:
化学放大抗蚀剂在光掩模制造中的应用
作者:
Author(s): Masumi Arai Dai Nippon Printing Co. Ltd. Kamifukuoka-shi Saitama Japan
;
Hiroyuki Inomata Dai Nippon Printing Co. Ltd. Shinjuku-ku Tokyo Japan
;
Toshiharu Nishimura Dai Nippon Printing Co. Ltd. Saitama Japan
;
Masa-aki Kurihara Dai Nippon Printing Co. Ltd. Kamifukuoka Saitama Japan
;
Naoya Hayashi Dai Nippon Printing Co. Ltd. Fukuoka-shi Saitama Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
60.
Photomask blanks enhancement for the laser reticle writer
机译:
激光掩模版写入器的光掩模空白增强
作者:
Hideo Kobayashi
;
Hoya Corp.
;
Kitakoma-gun
;
Yamanashi
;
Japan
;
Keishi Asakawa
;
Hoya Corp.
;
Kitakoma-gun
;
Yamanashi
;
Japan
;
Yasunori Yokoya
;
Hoya Corp.
;
Kitakoma-gun
;
Yamanashi
;
Japan.
会议名称:
《Photomask and X-Ray Mask Technology II》
|
1995年
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