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【24h】

Sizing the next generation of optical photomasks

机译：调整下一代光学光罩的尺寸

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Abstract: Photomask technology remains one of the key enablers for the advancement of the semiconductor industry. Optical lithography will continue to be the mainstream technology for 0.25 $mu@m and will likely extend below 0.2 $mu@m. Continuous improvements in all aspects of fabrication will be required to support the ever decreasing error budgets as critical images continue to shrink. Additionally, stepper manufacturers will be migrating to large print fields via the use of advanced techniques like step and scan. The size of these print fields becomes limited, not by the size of the lens, but by the size of the photomask. For the photomask industry to cost-effectively implement the next reticle size, standardization will be required. Sufficient volume of production and higher process will be necessary to recover the high implementation costs.!0
机译：摘要：光掩模技术仍然是半导体工业发展的关键推动力之一。光刻技术将继续成为0.25μm@m的主流技术，并有可能扩展至0.2μm@m以下。随着关键图像的不断缩小，需要不断改进制造的各个方面，以支持不断减少的错误预算。此外，步进机制造商将通过使用步进和扫描等先进技术，将其迁移到大型印刷领域。这些打印区域的大小不仅受透镜的大小限制，而且受光掩模的大小限制。为了使光掩模行业经济有效地实现下一个标线片尺寸，需要进行标准化。要收回高昂的执行成本，必须有足够的生产量和更高的流程。！0

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