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【24h】

BIMOS transistor in thin silicon film and new solutions for ESD protection in FDSOI UTBB CMOS technology

机译:薄硅膜中的Bimos晶体管和FDSOI UTBB CMOS技术的ESD保护解决方案

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摘要

The purpose of this study is to evaluate the ESD protection behavior using BIMOS transistors integrated in ultrathin silicon film for 28 nm FDSOI UTBB high-k metal gate technology. Using as a reference our measurements in hybrid bulk structures we extend the BIMOS design towards the ultrathin silicon film. Evaluations are done based on 3D TCAD simulation with standard physical models using ACS method and quasi-static DC stress (AVS method).
机译:本研究的目的是评估使用集成在超薄硅膜中的BIMOS晶体管的ESD保护行为,用于28 nm FDSOI UTBB高k金属栅极技术。用作参考我们在混合体积结构中的测量,我们将BIMOS设计扩展到超薄硅膜。使用ACS方法和准静态DC应力(AVS方法)基于具有标准物理模型的3D TCAD模拟来完成评估。

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