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【24h】

BIMOS transistor in thin silicon film and new solutions for ESD protection in FDSOI UTBB CMOS technology

机译:薄膜中的BIMOS晶体管和FDSOI UTBB CMOS技术中用于ESD保护的新解决方案

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摘要

The purpose of this study is to evaluate the ESD protection behavior using BIMOS transistors integrated in ultrathin silicon film for 28 nm FDSOI UTBB high-k metal gate technology. Using as a reference our measurements in hybrid bulk structures we extend the BIMOS design towards the ultrathin silicon film. Evaluations are done based on 3D TCAD simulation with standard physical models using ACS method and quasi-static DC stress (AVS method).
机译:这项研究的目的是使用集成在28nm FDSOI UTBB高k金属栅极技术的超薄硅膜中的BIMOS晶体管来评估ESD保护行为。作为参考,我们在混合体结构中的测量将BIMOS设计扩展到了超薄硅膜。使用ACS方法和准静态DC应力(AVS方法),基于具有标准物理模型的3D TCAD仿真进行评估。

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