Ai_2O_3/MgF_2 HR coatings; working pressure; laser-induced damage threshold(LIDT);
机译:通过电子束蒸发制备的Al_2o_3 / sio_2薄膜作为4h-sic上的uv增透膜
机译:电子束蒸发制备的Al2O3薄膜的工作压力依赖性
机译:通过离子束溅射和蒸发制备的由MgF_2保护的Al真空紫外涂层
机译:工作压力对通过电子束蒸发制备的Al_2O_3 / MgF_2 HR涂层性能的影响
机译:通过反应和离子束辅助,电子束物理气相沉积(EB-PVD)合成和表征碳化钛,碳氮化钛硼,硼化钛/碳化钛和碳化钛/碳化铬多层涂层。
机译:室温电子束蒸发制备透明导电氧化物膜的三明治结构研究
机译:脉冲电子束蒸发制备的碳掺杂氧化锌涂层的结构和磁性
机译:在反应环境中蒸发铪以通过电子束沉积制造211高损伤阈值多层涂层的优点