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【24h】

Evaporation Removal of Boron in Molten Silicon Using Reactive Fluxes

机译：使用反应性助熔剂蒸发熔融硅中硼的去除

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In order to optimize the B removal during slag-refining process for solar-grade silicon production, a new process for the removal of B in molten Si was proposed based on the principle of oxidized chlorination and evaporation. B can be generated and evaporated in the form of B-containing gas (BOCl) from molten Si using CaO-SiO_2-CaCl_2 slag system. Compared with the binary systems of CaO-CaCl_2 and SiO_2-CaCl_2 slag, the ternary slag system CaO-SiO_2-CaCl_2 showed a better potential (90 pct) for B removal at 1723 K for 2 h. Moreover, the diffusion coefficient (D) of B in the slag was also determined using tube-molten pool method. Through this, it was found that the rate-limiting step of B-removal in the slag refining process is controlled by B transfer in the slag interface and surface.
机译：为了优化在用于太阳能级硅生产过程中的熔渣精炼过程中的B脱模，提出了一种基于氧化氯化和蒸发原理的熔融Si中去除B的新方法。 B可以通过使用CaO-SiO_2-CaCl_2渣系统从熔融Si的含B气体（BOCl）的形式产生和蒸发B.与CaO-CaCl_2和SiO_2-CaCl_2渣的二元系统相比，三元渣系统CaO-SiO_2-CaCl_2显示出更好的电位（90pct），用于在1723 k下去除2小时。此外，还使用管熔池法测定炉渣中的B的扩散系数（d）。通过这一点，发现在渣精炼过程中的B移除的速率限制步骤由渣界面和表面中的B传输控制。

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