LSI/PSI/USP, University of Sao Paulo, Sao Paulo, SP, Brazil;
LSI/PSI/USP, University of Sao Paulo, Sao Paulo, SP, Brazil,Department of Electrical Engineering, FEI, Sao Bernardo do Campo, SP, Brazil;
LSI/PSI/USP, University of Sao Paulo, Sao Paulo, SP, Brazil,Department of Electrical Engineering, FEI, Sao Bernardo do Campo, SP, Brazil;
LSI/PSI/USP, University of Sao Paulo, Sao Paulo, SP, Brazil;
机译:三维瓶颈屏障高度最小对硅 - 衬里三栅鳍片型场效应晶体管源极和排水延伸的离子植入阈值电压波动
机译:离子注入源极和漏极延伸引起的绝缘体上硅三栅鳍型场效应晶体管阈值电压波动起因的三维研究
机译:由离子注入引起的硅 - 绝缘体三栅鳍片型场效应晶体管阈值电压波动起源的三维探索
机译:应变有效性依赖于翅片尺寸和形状的N型三栅架
机译:取决于Fin形状和TSV以及3D集成电路中背栅噪声耦合的FinFET电性能仿真。
机译:二维和磷类似物(单分子α-相-IV-单硫族化物MX)有效质量的角和应变依赖性的第一性原理计算
机译:三栅装置双轴/单轴应变工程的翅片间距影响
机译:二维Ising模型临界区域中的畴壁和形状依赖性