【24h】

Measuring Silicon Pore Optics

机译:测量硅孔隙光学

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摘要

While predictions based on the metrology (local slope errors and detailed geometrical details) play an essential role in controlling the development of the manufacturing processes, X-ray characterization remains the ultimate indication of the actual performance of Silicon Pore Optics (SPO). For this reason SPO stacks and mirror modules are routinely characterized at PTB's X-ray Pencil Beam Facility at BESSY Ⅱ. Obtaining standard X-ray results quickly, right after the production of X-ray optics is essential to making sure that X-ray results can inform decisions taken in the lab. We describe the data analysis pipeline in operations at cosine, and how it allows us to go from stack production to full X-ray characterization in 24 hours.
机译:尽管基于计量的预测(局部斜率误差和详细的几何细节)在控制制造过程的发展中起着至关重要的作用,但X射线表征仍然是硅孔隙光学(SPO)实际性能的最终指示。因此,在BESSYⅡ的PTB的X射线笔形射束设备中,常规地对SPO堆栈和反射镜模块进行了表征。在生产X射线光学器件之后立即快速获得标准X射线结果,对于确保X射线结果可以为实验室中的决策提供依据至关重要。我们描述了余弦运算中的数据分析管道,以及它如何使我们能够在24小时内从堆叠生产变为完整的X射线表征。

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