Optimal Photomask Printability using Interactive OPC with a New Calibration Methodology

机译：使用交互式OPC和新的校准方法实现最佳的光掩模可印刷性

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We have demonstrated that a properly calibrated process simulation enables OPC to be carried out without flattening of the hierarchical basic structure of the design. This achievement enables a great speed up of the OPC correction mechanism, saving a great deal of disc space and enabling a very simple parallel zed structure. In other words, OPC can be sped up in a much more reliable way.

机译：我们已经证明，经过适当校准的过程仿真可以使OPC得以执行，而不会弄平设计的层次结构基本结构。此成就可大大加快OPC校正机制的速度，节省大量光盘空间，并实现非常简单的并行zed结构。换句话说，可以以更加可靠的方式加快OPC的运行速度。

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来源
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIV pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6607 pt.2》|2007年|66071P.1-66071P.8|共8页
会议地点 Yokohama(JP)
作者
Eytan Barouch; Stephen L. Knodle;
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作者单位

Boston University, 15 St. Mary St., Brookline MA 02446, USA;

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会议组织
原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类印刷电路;半导体器件制造工艺及设备;
关键词

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