Nat. Inst. of Adv. Ind. Sci. Technol. (AIST), Tsukuba, Japan;
机译:硒化参数对用Cu-In-Ga,Cu-In_2Se_3或Cu-Ga-In_2Se_3靶溅射沉积的Cu(In,Ga)Se_2薄膜生长特性的影响以及随后的550-700℃硒化程序
机译:金属环烷酸盐交替交替生长贫铜/富铜/贫铜/富铜/层对旋涂技术制备的CuInSe_2薄膜性能的影响
机译:YBa(2)Cu3O(7-delta)生长模式对在邻近LaAlO3衬底上外延生长的BaxSr1-xTiO3 / YBa2Cu3O7-delta双层薄膜的BaxSr1-xTiO3介电性能的影响
机译:Cu(In,Ga)(s,se)2膜的生长和性质
机译:脉冲激光沉积生长的外延YBa2Cu3O7-8薄膜和YBa2Cu3O7-8 / PrBa2Cu3O7-8异质结构的超导性能
机译:通过共溅射和溅射气体聚集获得的CO-Cu薄膜的磁传输性能
机译:Cu3N薄膜和Cu3N /γ'-Fe4N双层薄膜的生长和性能
机译:fcc-Fe(001)薄膜的电子和磁性:Fe / Cu(001)和Cu / Fe / Cu(001)。