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首页> 外文会议>Proceedings vol.2003-29; Epitaxial Growth of Functional Oxides Symposium and Electrochemical Society Meeting; 20031012-17; Orlando,FL(US) >PULSED LASER DEPOSITION OF THIN FILMS ON A TEMPERATURE-GRADIENT SUBSTRATE HOLDER
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PULSED LASER DEPOSITION OF THIN FILMS ON A TEMPERATURE-GRADIENT SUBSTRATE HOLDER

机译：在温度梯度基质保持器上的脉冲激光沉积薄膜

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Thin-film growth of complex oxides requires the optimization of a number of critical parameters. Finding the correct substrate temperature is one of the most important and often time-consuming steps in pulsed laser deposition (PLD) and other techniques. We have developed a substrate heater allowing the simultaneous deposition onto a number of samples kept at different temperatures by means of a lateral temperature gradient across a sample holder. For standard characterization techniques, it is often important that the individual samples be of a sufficient size. PLD typically results in a uniform deposition only across a relatively limited area. Here we show that a simple oscillatory motion of the heater plate, coupled with a constant laser repetition rate, yields the required uniformity across a 5-cm area.
机译：复杂氧化物的薄膜生长需要优化许多关键参数。在脉冲激光沉积（PLD）和其他技术中，找到正确的基板温度是最重要且经常耗时的步骤之一。我们已经开发了一种基板加热器，该加热器可以通过样品架上的横向温度梯度同时沉积到许多保持不同温度的样品上。对于标准的表征技术，单个样品的尺寸足够大通常很重要。 PLD通常仅在相对有限的区域内产生均匀的沉积。在这里，我们显示出加热板的简单振荡运动，加上恒定的激光重复频率，可以在5厘米的区域内产生所需的均匀性。

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