【24h】

EPITAXIAL ELECTRODEPOSITION OF FUNCTIONAL METAL OXIDE THIN FILMS

机译:功能性金属氧化物薄膜的表观电沉积

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摘要

This paper is a review of our recent work on the epitaxial electrodeposition of functional metal oxide thin films. Epitaxial systems discussed are Cu_2O on Si(001) and InP(001), Fe_3O_4 on Au(111), and chiral CuO on Au(001). A major emphasis of our work has been to use the deposition solution (pH, complexing agents, additives) and overpotential to control the shape, orientation, and chirality of epitaxial films.
机译:本文是对我们最近在功能金属氧化物薄膜的外延电沉积方面的工作的回顾。讨论的外延体系是Si(001)和InP(001)上的Cu_2O,Au(111)上的Fe_3O_4和Au(001)上的手性CuO。我们工作的主要重点是使用沉积溶液(pH,络合剂,添加剂)和超电势来控制外延膜的形状,取向和手性。

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