Superconductivity Research Laboratory, International Superconductivity Technology Center, Shinonome 1-10-13, Koto-ku, Tokyo 135-0062, JAPAN;
机译:两步热处理改善了织构Ni衬底上表面氧化NiO层的面内排列
机译:用于Tl-1223厚膜的双轴织构Ni衬底和LaNiO / sub 3 /缓冲层的制造
机译:用于Tl-1223厚膜的双轴织构Ni衬底和LaNiO3缓冲层的制造
机译:SMBA_2CU_3O_Y平面面对对准和超导特性的提高。 通过使用Bazro_3缓冲层将纹理的NIO / NI衬底薄膜
机译:直流磁控溅射性能的改进含保留Ar原子的Al掺杂ZnO多晶膜10nm厚的缓冲层
机译:SMBA 2 Cu 3 sub> o> Y sub> i>薄膜的平面内对准的机制,bazro 3 sub>在MgO衬底上缓冲层
机译:在具有纹理化缓冲层的柔性Ni基合金基底上制备高质量YBa2Cu3O(7-δ)厚膜