Laboratoire d'Electrochimie et de Physico-chimie des Materiaux et des Interfaces ENSEEG-INP Grenoble BP 75, 1130 rue de la Piscine, FR-38402 St Martin d'Heres, France;
机译:通过IT-SOFC应用中的静电喷涂工艺,对附着在YSZ上的致密CGO薄膜进行精细加工
机译:通过静电喷涂从悬浮液制备YSZ薄膜
机译:YSZ悬浮液的流变特性对静电喷涂YSZ薄膜形貌的影响
机译:ysz薄膜用不同微结构的静电喷射沉积
机译:限流场注入静电喷涂(FFESS)及其在薄膜沉积中的应用研究
机译:基于静电喷雾沉积的氧化锰膜—从伪电容电荷存储材料到三维微电极集成体
机译:脉冲激光沉积YsZ薄膜中的密集锯齿形微结构
机译:mOCVD生长YsZ薄膜气体传感器微观结构的意义