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首页> 外文会议>Sixth International Conference on Solid State Lighting >2D Photonic Crystal Patterning for High Volume LED Manufacturing
【24h】

2D Photonic Crystal Patterning for High Volume LED Manufacturing

机译：用于大批量LED制造的2D光子晶体图案

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Due to their small dimensions when used for visible light, the patterning of photonic crystals has only been possible with costly electron beam lithography and low throughput R&D and pilot production grade imprint lithography. This paper will focus on results from a high throughput imprint tool capable of processing over 20 wafers per hour on 50-100mm sapphire, GaAs, SiC, Ge and metal substrates. An overview of the process used as well as the results of patterning photonic crystal patterns on sapphire wafers and etching them into a SiO2 hard mask will be presented. Finally an analysis of the cost of ownership which currently stands at ～ $20/wf ( < $0.01/mm~2 for 50mm wafers) will be presented and opportunities for improvement discussed.
机译：由于其用于可见光时的尺寸小，仅通过昂贵的电子束光刻，低通量研发和中试生产级压印光刻技术，才可以对光子晶体进行图案化。本文将重点介绍高通量压印工具的结果，该工具每小时可在50-100mm的蓝宝石，GaAs，SiC，Ge和金属衬底上处理20个晶圆。将概述所使用的工艺以及在蓝宝石晶片上构图光子晶体图案并将其蚀刻到SiO2硬掩模中的结果。最后，将对目前的所有权成本进行分析，该成本约为20美元/ wf（50mm晶圆<0.01美元/ mm〜2），并讨论改善的机会。

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