Department of Materials Science and Engineering Tsinghua University, Beijing 100084, CHINA;
机译:使用金属蒸气真空电弧离子源高通量碳注入硅形成的化学计量SiC层的生长动力学
机译:金属蒸气真空电弧离子源高剂量碳注入Si形成的SiC埋层的组成,结构和光学性能
机译:金属蒸气真空电弧离子源注入低温直接合成β-SiC
机译:使用金属蒸汽真空电弧离子源通过钐离子注入在Si上的连续SMSI_2层的合成
机译:通过金属蒸气真空电弧(MEVVA)离子注入锗制造的磁性层的特性。
机译:通过控制层数和形貌的化学气相沉积法合成二维过渡金属二卤化物
机译:金属蒸汽真空电弧离子源的操作特性