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王伟;
重庆大学;
刻蚀机; 腔室结构; 工艺性能; 半导体工艺;
机译:腔室部件氧化铝陶瓷的等离子刻蚀特性与微观结构之间关系的研究
机译:晶圆刻蚀工艺中等离子刻蚀腔室的维修计划
机译:为改善GaAs / AIGaAs材料的感应耦合等离子体反应离子刻蚀而开发的腔室调节工艺
机译:腔室和线圈构型对电感耦合等离子体刻蚀机等离子体分布均匀性的影响
机译:有机材料等离子体刻蚀的刻蚀轮廓控制与表面反应研究
机译:使用纳米球刻蚀,软刻蚀和等离子刻蚀制造的等离子纳米结构
机译:不同形状的SCR混合腔室流动特性分析
机译:两个简化腔室结构中的本征模式研究了aps存储环束室中的寄生微波。
机译:等离子刻蚀机,具有各向同性的子腔室,该子腔室具有出气口,用于产生均匀的蚀刻
机译:破碎机水平轴冲击式破碎机,包括一个腔室,该腔室具有待破碎物料的入口,一个已破碎物料的出口。叶轮安装在破碎机腔室的水平轴上,并可绕水平轴旋转。破碎机的腔室配备有两个导向杆,一个夹紧模式,一个模式设置,在该模式下互锁装置已通电。
机译:水平轴冲击式破碎机破碎机包括一个腔室,该腔室具有待破碎物料的入口,一个已破碎物料的出口。叶轮安装在破碎机腔室的水平轴上,并可绕水平轴旋转。破碎机腔室设有两个导轨,滑动调节装置连接到该导轨。
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