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引言
1文献综述
1.1金刚石膜CVD过程的机理
1.1.1金刚石的形核
1.1.2金刚石的生长
1.1.3金刚石膜的CVD理论模型
1.2低压气相沉积金刚石膜技术的发展现状
1.2.1金刚石膜沉积方法
1.2.2线形微波等离子体装置的发展
1.3等离子体及其诊断
1.3.1等离子体简述
1.3.2等离子体诊断
1.3.3Langmuir单探针诊断技术
1.3.4脉冲等离子体的诊断
2金刚石膜沉积设备和Langmuir探针系统
2.1金刚石膜的沉积设备
2.1.1线形微波等离子体CVD设备
2.1.2石英钟罩微波等离子体CVD设备
2.2Langmuir探针系统
2.2.1数模转换(D/A)卡(ISA插槽)
2.2.2数据采集(A/D)卡(ISA插槽)
2.2.3数控电源
2.2.4Langmuir探针
2.2.5软件系统
3Langmuir探针诊断方法
3.1诊断系统软件的建立
3.1.1Langmuir探针电路
3.1.2Langmuir探针测量软件的流程
3.1.3软件的实现
3.2探针测试过程中探针电压的扫描方式
3.2.1探针电压随时间变化的扫描方式
3.2.2探针电压恒定式的慢扫描方式
3.3数据分析
3.3.1探针电压随时间变化的扫描方式的数据分析
3.3.2恒探针电压的慢扫描方式的数据分析
4Langmuir探针对微波H2等离子体的诊断
4.1线形微波等离子体CVD设备的等离子体状态
4.1.1磁控管的功率输出和微波等离子体的点燃
4.1.2一侧磁控管单独工作时的等离子体状态
4.1.3两侧磁控管同时工作时的等离子体状态
4.2石英钟罩微波等离子体CVD设备的等离子体状态
4.3Langmuir探针测试系统存在的问题及改进的建议
结论
参考文献
附录A Langmuir探针测试程序清单
在学研究成果
致谢