声明
摘要
第一章 前言
1.1 引言
1.2 光刻工艺过程
1.3 光刻胶的成膜方式
1.3.1 旋转涂膜
1.3.2 自组装膜(Self-assembled Membranes,SAMs)
1.3.3 Langmuir-Blodgett(LB)膜
1.4 光刻过程所应用的光源
1.5 光致抗蚀剂
1.6 小结及课题的提出
第二章 实验部分
2.1 仪器与试剂
2.2 248nm光致抗蚀剂的合成
2.2.1 合成路线
2.2.2 甲基丙烯酰氯的合成
2.2.3 合成长链烷基丙烯酰胺
2.2.4 烯丙基丙二酸二乙酯的合成
2.2.5 烯丙基丙二酸的合成
2.2.6 烯丙基丙二酰氯的合成
2.2.7 烯丙基丙二酸二-1-金刚烷甲酯(DAdMAMA)的合成
2.2.8 烯丙基丙二酸二环己基甲酯(DCyMAMA)的合成
2.2.9 甲基丙烯酸-1-金刚烷甲酯(AdMMA)的合成
2.2.1 0 甲基丙烯酸环己基甲酯(CyMMA)的合成
2.2.11 甲基丙烯酸薄荷基酯(MeMMA)的合成
2.2.11 光敏组分与成膜组分自由基共聚
2.3 基片的处理
2.4 π-A曲线和LB膜的制备
第三章 结果和讨论
3.1 共聚物p(HDMA-DAdMAMA)s[h2a]的性质研究
3.1.1 共聚物p(HDMA-DAdMAMA)s的表征
3.1.2 共聚物p(HDMA-DAdMAMA)s成膜性能
3.1.3 成膜条件的选择与优化
3.1.4 Langmuir膜的转移性能研究
3.1.5 LB膜表面形态研究
3.1.6 共聚物p(HDMA-DAdMAMA)s LB膜的光刻实验
3.1.8 h2a20 LB膜的抗刻蚀性能研究
3.1.9 h2a20 LB膜光刻机理研究
3.1.10 h2a20的光分解机理推测
3.2 共聚物p(DDMA-DAdMAMA)s[d2a]性质研究
3.2.1 共聚物p(DDMA-DAdMAMA)s的表征
3.2.2 共聚物d2a在空气/水界面上的行为研究
3.3 共聚物p(HDMA-AdMMA)s[h1a]的性质
3.3 h1a系列共聚物的表征
3.3.2 共聚物在空气/水界面上的行为研究
3.3.3 h1a成膜条件的优化与选择
3.3.4 h1a40成膜性能研究
3.3.5 LB膜表面形态研究
3.3.6 LB膜光刻性能研究
3.3.7 LB膜光分解性质分析
3.3.8 h1a40的TG-DSC图
3.3.9 光分解机理推测
3.4 共聚物DDMA-AdMMA[d1a]的性质研究
3.4.1 共聚物p(DDMA-AdMMA)s的表征
3.4.2 共聚物在气/液界面上的行为研究
3.4.3 d1a30成膜条件的优化与选择
3.5 p(HDMA-DCyMAMA)s[h2d]共聚物的性质
3.5.1 共聚物p(HDMA-DCyMAMA)s的表征
3.5.2 共聚物p(HDMA-DCyMAMA)s成LB膜性能
3.5.3 共聚物h2d30的成膜条件的选择与优化
3.5.4 LB膜表面形态研究
3.5.5 LB膜光刻性能的研究
3.5.6 光致抗蚀剂抗蚀性能研究
3.5.7 光致抗蚀剂光分解机理研究
3.5.8 h2d30光分解机理的推测
3.6 共聚物p(DDMA-CyMMA)s[d1d]的性质
3.6.1 共聚物P(DDMA-CyMMA)s的表征
3.6.2 d1d系列共聚物在气液界面上的行为研究
3.6.3 共聚物d1d成膜条件的选择与优化
3.7 共聚物p(HDMA-MeMMA)s[h1e]的性质
3.7.1 h1e系列共聚物的表征
3.7.3 h1e系列共聚物的成膜性质
3.7.4 h1e系列四种共聚物的Es-π曲线
第四章 结论
参考文献
附图
硕士期间发表文章(2010-2013)
致谢