基于分子动力学的飞秒激光烧蚀硅的研究

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目录

第1章 绪 论

1.1 课题研究背景

1.2 激光加工与分子动力学方法介绍

1.3 分子动力学模拟激光加工的国内外研究现状

1.4 本文的主要工作

第2章 飞秒激光与单晶硅的相互作用模型

2.1 引言

2.2 分子动力学适用范围

2.3 飞秒激光与硅的能量耦合方式

2.4 势能函数的选择及相互作用力的推导

2.5 元胞索引法和邻近链表法

2.6 无量纲化

2.7 本章小结

第3章 分子动力学模拟程序

3.1 引言

3.2 程序流程和程序断电保护

3.3 重要子程序介绍

3.4 本章小结

第4章 硅的平衡态模拟

4.1 引言

4.2 初始位置排布

4.3 确定模拟系统粒子初始速度

4.4 速度算法

4.5 周期性边界条件与最近镜像方法

4.6建立材料底部热浴模型

4.7 模拟系综的选择

4.8 时间步长选择与结果验证

4.9 本章小结

第5章 飞秒激光烧蚀现象

5.1 引言

5.2 初始条件

5.3 烧蚀现象

5.4 激光光斑完全覆盖材料表面

5.5 激光光斑小于烧蚀材料的表面的面积

5.6 水导激光提高材料的加工质量

5.7 本章小结

结论

参考文献

攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果

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致谢