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致谢
第一章引言
第一节铁电体概述
§1.1铁电体的定义
§1.2铁电体的发展历史
第二节铁电体的特点，应用及当前发展趋势
§2.1铁电体的特点
§2.2铁电材料的应用
§2.3铁电薄膜的制备方法及发展趋势
第二章355nm脉冲激光沉积SrBi2Ta2O9铁电薄膜
第一节PLD技术的发展与特点
第二节实验部分
第三节SBT薄膜的测试结果
§3.1测试样品的制备
§3.2样品1的测试结果及分析
§3.3样品2的测试结果及分析
§3.4样品3的测试结果及分析
§3.5样品4的测试结果及分析
第四节沉积、退火条件的分析讨论
§4.1靶材料的组分比和制备
§4.2环境气体压力
§4.3基片温度、退火温度与时间
§4.4激光波长与能量密度
§4.5靶与基片距离和沉积时间
第三章355nm脉冲激光烧蚀Sr-Bi-Ta-O靶的机理研究
第一节激光烧蚀的基本原理和研究方法
§1.1基本原理
§1.2研究方法
第二节实验装置
§2.1角分辨和时间分辨的四极质谱的测定
§2.2发光光谱的测定
§2.3激光光源系统和靶材料
第三节355nm脉冲激光烧蚀Sr-Bi-Ta-O靶的飞行时间四极质谱
§3.1烧蚀产物的质量分布
§3.2 TOF谱的拟合
§3.3烧蚀产物的空间角分布
第四节355nm脉冲激光烧蚀Sr-Bi-Ta-O靶的发光光谱
§4.1发光光谱
§4.2氧化物发光强度随氧气浓度的变化
第五节小结
参考文献
