用于高速光通信系统的基于绝缘体上硅材料平台的刻蚀衍射光栅器件

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致谢

摘要

1 绪论

1．1 高速光通信系统

1．1．1 光收发模块

1．1．2 光子交换芯片

1．2 不同材料平台的EDG

1．3 本论文的主要研究内容和章节安排

2 刻蚀衍射光栅的基本原理、设计与仿真

2．1 引言

2．2 EDG的基本原理

2．2．1 EDG的几何结构

2．2．2 EDG的工作原理

2．2．3 EDG的基本特性

2．3 EDG设计及仿真

2．3．1 EDG的设计方法

2．3．2 EDG的数值仿真

3 基于220 nm SOI平台的刻蚀衍射光栅波长路由器

3．1 引言

3．2 EDGR的设计

3．2．1 EDGR的整体设计流程

3．2．2 EDGR的设计举例

3．2．3 EDGR的总体布局和仿真结果分析

3．3 基于220 nm SOI平台的EDGR制作工艺

3．3．1 主要工艺

3．3．2 EDGR制作的整体工艺流程

3．4 基于220 nm SOI平台的EDGR测试结果及分析

3．4．1 EDGR制作结果

3．4．2 EDGR测试结果

3．5 EDGR损耗不均匀问题分析

3．5．1 损耗不均匀性产生的原因

3．5．2 改善损耗不均匀性的方法

4 基于3 μm SOI平合面向LR4应用的EDG波分复用器

4．1 引言

4．2 基于3 μm SOI平台的EDG的设计及仿真

4．2．1 SOI材料及波导结构的选择

4．2．2 整体结构设计及其仿真

4．3 基于3 μm SOI平台的EDG的制作

4．3．1 关键工艺

4．3．2 整体工艺流程

4．4 基于3 μm SOI平台的EDG的测试及结果分析

4．4．1 EDG的制作结果

4．4．2 EDG的测试结果

5 总结与展望

参考文献

作者简介