玻璃基板上APCVD法制备硅钛化合物薄膜及其性能研究

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第一章绪论

第二章文献综述

2.1硅化钛在电子器件中的应用及制备方法

2.1.1过渡金属硅化物的在电子器件中应用背景

2.1.2过渡金属硅化物薄膜的制备方法

2.2两种典型硅钛合物的比较

2.3低辐射镀膜玻璃的发展背景及研究现状

2.3.1低辐射镀膜玻璃的发展背景

2.3.2低辐射镀膜玻璃的膜系结构特征

2.3.3低辐射镀膜玻璃的制备方法

2.3.4低辐射镀膜玻璃的节能原理

2.4本文研究目的与意义

本章参考文献：

第三章实验与测试

3.1样品制备

3.1.1实验装置

3.1.2反应体系的选择

3.1.3样品制备过程

3.1.4实验方案：

3.2分析和测试方法

3.2.1 X射线衍射(XRD)

3.2.2透射电子显微镜(TEM)

3.2.3场发射扫描电镜(FESEM)

3.2.4薄膜电阻(率)的测定

3.2.5紫外-可见光透射率测试

3.2.6红外反射率测试

3.2.7透明玻璃的常用光学参数定义

3.2.8透明玻璃的抗腐蚀性能测试方法

3.2.9腐蚀倾向判别

本章参考文献：

第四章APCVD法玻璃基板上沉积硅化钛膜

4.1硅化钛薄膜制备

4.2硅钛比(Si/Ti)对生成物相的影响

4.3沉积温度对生成物相的影响

4.4本章小结

本章参考文献

第五章APCVD玻璃基板上沉积的Ti5Si3膜的光、电性能及耐腐蚀性能研究

5.1 Ti5Si3薄膜的电阻率与沉积温度的关系

5.2 Ti5Si3薄膜的反射率与沉积温度的关系

5.3 Ti5Si3薄膜耐酸、碱腐蚀性能与沉积温度的关系

5.3.1腐蚀蚀速率测量

5.3.2耐腐蚀性能与沉积温度的关系

5.4透明膜的性能

5.5本章小结

本章参考文献

第六章APCVD玻璃基板上沉积的TiSi2膜的光、电性能及耐腐蚀性能研究

6.1 TiSi2薄膜的电阻率与沉积温度的关系

6.2 TiSi2薄膜的反射率与沉积温度的关系

6.3 TiSi2薄膜的耐腐蚀性能与沉积温度的关系

6.3.1在酸性溶液中的腐蚀行为

6.3.2在碱性溶液中的腐蚀行为

6.3.3在酸、碱性溶液中的腐蚀比较

6.4透明膜TiSi2薄膜的光学性能

6.5本章小结

本章参考文献

第七章结论

硕士期间发表的论文

致谢