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第一章绪论
1.1纳米科技
1.2纳米加工技术
1.2.1超精密机械加工
1.2.2光刻加工
1.2.3能量束加工
1.2.4 LIGA技术、准LIGA技术、DEM技术
1.2.5纳米压印术
1.2.6自组装技术
1.2.7扫描探针加工技术
1.3扫描探针显微镜
1.3.1扫描隧道显微镜及其工作原理
1.3.2原子力显微镜及其工作原理
1.4扫描探针加工技术
1.4.1扫描探针加工的起源
1.4.2扫描探针加工技术的主要特点
1.4.3扫描探针加工方法与机理
1.4.4扫描探针加工的特殊方法
1.4.5扫描探针加工技术的共性问题、应用与展望
1.5论文选题背景与研究内容
1.5.1论文选题背景
1.5.2论文研究内容
第二章扫描探针场致加工理论
2.1场致电子发射理论
2.2探针与样品之间的场致电子发射
2.3探针与样品之间电场的模拟与分析
2.4小结
第三章大气环境下扫描探针场致氧化加工理论
3.1大气环境下扫描探针场致氧化加工的基本特性
3.2大气环境下扫描探针场致氧化的动力学方程
3.3小结
第四章大气环境下接触模式AFM场致氧化Si：H
4.1 STM与AFM场致氧化加工比较分析
4.2扫描探针加工方式
4.2.1扫描点阵加工方式
4.2.2扫描矢量加工方式
4.3探针与样品的制备
4.3.1导电探针的选用
4.3.2样品的制备
4.4接触模式AFM场致氧化Si：H的实现
4.4.1偏置电压对氧化线几何参数的影响
4.3.2探针移动速度对氧化线几何参数的影响
4.4.3对实验结果的进一步分析
4.5 Si：H表面的接触模式AFM场致阳极氧化加工机理分析
4.6小结
第五章总结与展望
5.1总结
5.2论文创新之处
5.3展望
参考文献
攻读硕士学位期间参加的科研项目与发表的学术论文目录
致谢
附录
附录1扫描探针显微镜家族成员特征表
附录2扫描探针显微镜家族图谱
