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CN1887997超大规模集成电路多层布线SiO2介质的纳米SiO2磨料抛光液

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本发明涉及一种超大规模集成电路多层布线SiO2介质的纳米SiO2磨料抛光液。该抛光液的组分及重量％如下：磨料：二氧化硅水溶胶固含量：20-45，复合碱：0．5—5．5，渗透剂：1．0—10，表面活性剂：1．0-10．

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来源
《磨料磨具通讯》 |2007年第6期|37|共1页
作者

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作者单位

无;

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正文语种 CHI
中图分类大规模集成电路、超大规模集成电路;
关键词
超大规模集成电路; 纳米SiO2; 多层布线; 抛光液; 磨料; 介质; 二氧化硅水溶胶; 表面活性剂;

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