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LPCVD系统平均自由程影响及其工艺条件的计算

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本文在A.Grove理论基础上,引入“平均自由程”概念,对低压化学汽相淀积（IPCVD）反应动力学作了分析,导出了该系统生长速度公式,并从理论上计算了反应的最佳条件。实验结果与理论分析符合得较好。

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来源
《电子学报》 |1981年第6期|82-86|共5页
作者
丁成玉;
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作者单位

威海无线电一厂;

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正文语种 chi
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