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非晶硅薄膜应力研究

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摘要

应用x射线衍射技术,发展了一种自动测定晶体曲率半径的方法,通过测量两种不同工艺制备的非晶硅膜,比较其内应力。单晶硅衬底的曲率半径反比于膜厚,单位膜厚所产生的应力只依赖于膜的沉积工艺,而与膜厚无关。

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来源
《太阳能学报》 |1989年第4期|394-399|共6页
作者
庞大文; 李悦; 葛培文; 麦振洪;
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作者单位

北京工业大学无线电系;

中国科学院物理研究所;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类 TN304.055;
关键词
非晶硅薄膜; 薄膜; 应力研究;

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