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张纪才; 王建峰; 王玉田; 杨辉;
中国科学院半导体研究所,集成光电子国家重点实验室,北京,100083;
武汉大学物理系,武汉,430072;
x射线三轴晶衍射; 界面粗糙度; 位错; InGaN/GaN多量子阱;
机译:TEGa流量对MOCVD生长的InGaN / GaN多量子阱的光学和结构性质的影响
机译:上部阱/势垒界面的小流量氢处理对InGaN / GaN多量子阱性能的影响
机译:InGaN / GaN对的数目对InGaN / GaN多量子阱的光电化学性质的影响
机译:生长压力和气相化学性质对InGaN / GaN多量子阱光学质量的影响
机译:InGaN / GaN多量子阱结构:亚微米结构,光学,电和化学性质。
机译:具有不同GaN盖层厚度InGaN / GaN多量子阱的光学性质的研究
机译:量子孔厚度波动对PA-MBE生长的Ingan / GaN多量子阱结构光学性质的影响
机译:用于激光二极管应用的GaN,InGaN和GaN / InGaN量子阱结构的mBE生长和性质
机译:表面等离子体增强型Ingan / GaN多量子阱光电极及其制备方法
机译:/ InGaN / GaN多量子阱结构层的制造方法
机译:InGaN氮化物层和多量子阱结构有源层的形成方法
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