AlN在AlN/VN纳米多层膜中的相转变及其对薄膜力学性能的影响

劳技军; 胡晓萍; 虞晓江; 李戈扬; 顾明元

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采用反应磁控溅射制备了AlN/VN纳米多层膜.研究了多层膜调制周期对AlN生长结构的影响以及纳米多层膜的力学性能.结果表明:小周期多层膜中的AlN以亚稳的立方相(c-AlN)存在并与VN形成共格外延生长的超晶格.薄膜产生硬度和弹性模量升高的超硬效应.大调制周期下,AlN从立方结构转变为稳定的六方相(h-AlN),并使多层膜形成纳米晶的"砖墙"型结构.讨论认为VN的模板作用有利于c-AlN的生长,但不能显著提高其临界厚度.

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来源
《物理学报》 |2003年第9期|2259-2263|共5页
作者
劳技军; 胡晓萍; 虞晓江; 李戈扬; 顾明元;
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作者单位

上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030;

上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030;

上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030;

上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030;

上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030;

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正文语种 chi
中图分类工程材料学;
关键词
薄膜的力学性能; 外延生长; 亚稳相;

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