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TiN/AlN 纳米多层膜的制备及力学性能

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摘要

采用多靶反应磁控溅射法制备了ＴｉＮ／ＡｌＮ纳米多层膜，并通过ＸＲＤ、ＴＥＭ和显微硬度计对多层膜的调制结构和力学性能进行了研究．结果表明，反应磁控溅射法制得的纳米多层膜调制界面平直清晰；薄膜的硬度随其调制周期Λ的减小而单调增加，硬度在Λ＝２ｎｍ时达到最大值ＨＫ３２．９３ＧＰａ．

著录项

来源
《上海交通大学学报》 |1999年第2期|159-161|共3页
作者
李戈扬; 施晓蓉; 张流强; 吴亮; 李鹏兴;
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作者单位

上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室;

中国科学院上海冶金研究所;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜的生长、结构和外延;薄膜的性质;
关键词
纳米多层薄膜; 力学性能; 氮化钛; 氮化铝; 制备;

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