氢退火工艺对非晶硅光学性能的影响

著录项

• 来源
  《集成电路应用》 |2022年第1期|43-45|共3页
• 作者

  曾璞; 罗杰平; 刘从吉; 罗丹; 袁菲; 罗辉; 王兴伦; 王路; 钱煜; 关晟;

  展开▼
• 作者单位

  西南技术物理研究所;

  四川航空股份有限公司;

  展开▼
• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 半导体器件制造工艺及设备;
• 关键词

  非晶硅; 等离子化学气相沉积; 退火; 折射率; 消光系数; 傅立叶红外吸收谱;