磁控反应溅射与激光退火处理制备高浓度氮掺杂二氧化钛晶化薄膜材料

李琦; 尚建库

首页> 中文期刊> 《中国基础科学》 >磁控反应溅射与激光退火处理制备高浓度氮掺杂二氧化钛晶化薄膜材料

磁控反应溅射与激光退火处理制备高浓度氮掺杂二氧化钛晶化薄膜材料

开具论文收录证明 >>

文献代查 >>

页面导航

摘要
著录项
相似文献
相关主题

摘要

氮掺杂二氧化钛的光催化活性能够被可见光激活,从而大大提高其对太阳光能的利用效率。为了解决材料晶化与氮掺杂在晶化过程中损失这一矛盾,以制备出高浓度氮掺杂二氧化钛晶化薄膜材料,本文的研究发展出一种结合了磁控反应溅射与激光退火处理的新型非平衡态制备工艺。与传统的热处理工艺相比,激光退火处理能够获得具有更高氮掺杂浓度、更好晶化效果、更好可见光吸收效果的样品,在光催化分解有机污染物实验中展现出更优异的性能。激光退火处理晶化工艺可以在室温下进行,对于薄膜基体的影响范围非常浅,特别适用于晶化塑料/有机物基体上的薄膜涂层。通过在溅射薄膜中保持掺杂物浓度,激光退火处理能够获得传统工艺无法得到的材料性能。这种方法能进一步推广应用在其它材料体系中,制备出具有新性能的各种薄膜材料,以满足广泛的应用需要。

著录项

来源
《中国基础科学》 |2011年第1期|15-17|共3页
作者
李琦; 尚建库;
展开▼
作者单位

沈阳材料科学国家(联合)实验室(中国科学院金属研究所);

展开▼
原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类催化剂;
关键词
磁控反应溅射; 激光退火; 薄膜晶化; 掺杂;

相似文献

中文文献
外文文献
专利

1. 磁控反应溅射制备钇掺杂TiO2薄膜的研究 [J] . 张文杰 ,朱圣龙 ,李瑛 . 电镀与精饰 . 2009,第003期
2. 直流磁控反应溅射法制备的钒氧化物薄膜及其光谱研究 [J] . 李莉莎 ,崔海宁 ,姜振益 . 光谱学与光谱分析 . 2011,第001期
3. 中频磁控反应溅射制备c轴择优取向AlN薄膜 [J] . 汪振中 ,褚夫同 ,刘兴钊 . 功能材料 . 2010,第0z3期
4. 中频磁控反应溅射制备c轴择优取向AlN薄膜 [J] . 汪振中 ,褚夫同 ,刘兴钊 . 功能材料 . 2010,第A03期
5. 射频磁控反应溅射制备TiO2薄膜 [J] . 陈浩 ,李金泽 ,厉以宇 . 苏州大学学报（自然科学版） . 2010,第002期
6. 磁控反应溅射制备的Ta2O5薄膜的光学与介电性能 [C] . 张幸福 ,魏爱香 ,刘毅 . 第六届中国功能材料及其应用学术会议 . 2007
7. 射频磁控反应溅射低温制备高C轴择优取向的氮化铝薄膜 [A] . 邝许平 . 2014

磁控反应溅射与激光退火处理制备高浓度氮掺杂二氧化钛晶化薄膜材料

摘要

著录项

相似文献

相关主题

期刊订阅