半导体技术蓝图，光刻和DFM等内容重点更新

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美国半导体行业协会(SIA)日前透露。国际半导体技术蓝图(ITRS)2004年更新版最近在日本举行的ITRS冬季会议上获得通过。SIA表示，总体上的改进是预测了DRAM半间距(half-pitch)每三年有30％的递减，与摩尔定律所预测的每片IC上晶体管数量每两年翻番的预测相一致。ITRS是全球半导体工业需求15年展望的一致性参考文档。

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来源
《中国集成电路》 |2005年第1期|38-39|共2页
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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类半导体器件制造工艺及设备;电子工业;
关键词
SIA; 半导体行业协会; 半导体工业; 半导体技术; 需求; 预测; 摩尔定律; 光刻; DFM; IC;

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