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P+多晶Si1-xGex功函数对异质结CMOS器件电学特性影响的模拟研究

         

摘要

为使垂直层叠SiGe/Si异质结CMOS器件具有匹配的阈值电压,利用二维器件模拟器MEDICI模拟分析了p+多晶Si1-xGex栅的功函数对此类器件直流与交流特性参数的影响,得出在P+多晶Si1-xGex功函数W=0.85 eV,即Ge组分x=0.36时,此类器件的p-MOSFET与n-MOSFET具有匹配的阈值电压,分别为VTp=-0.215 V和VTn=O.205 V.为此类器件的优化设计和制备提供了理论依据.

著录项

  • 来源
    《电子器件》 |2008年第3期|795-799|共5页
  • 作者单位

    西安电子科技大学微电子学院,宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室,西安,710071;

    西安电子科技大学微电子学院,宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室,西安,710071;

    西安电子科技大学微电子学院,宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室,西安,710071;

    西安电子科技大学微电子学院,宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室,西安,710071;

    西安电子科技大学微电子学院,宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室,西安,710071;

    西安电子科技大学微电子学院,宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室,西安,710071;

    西安电子科技大学微电子学院,宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室,西安,710071;

    西安电子科技大学微电子学院,宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室,西安,710071;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 TN301.1;
  • 关键词

    异质结CMOS; p+多晶Si1-xGex栅; MEDICI模拟; 功函数;

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