NH4F对化学镀镍液的作用机理及镀层性能的影响

应华根; 罗伟; 严密

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NH4F对化学镀镍液的作用机理及镀层性能的影响

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氟元素是周期表中最活泼的非金属元素，有着最强的电负性．氟化物有着特殊的化学性能。关于氟化物在化学镀镍磷工艺中的应用已有报道，在镁基体上化学镀的前处理过程中．常用氢氟酸或氟化氢铵来进行活化处理：硅片表面上的化学镀也通常用HF与HNO3或HCl的混酸来活化，使硅片表面产生Si-H键。另外。如果在化学镀液中添加少量的氟化钠．则起到加速的作用。对于氟化物在化学镀镍磷工艺中的报道仅限于此．未见有关氟化物在化学镀中其它作用的研究。鉴于此，本工作以氟化铵为研究对象．对其在弱碱性的条件下对化学镀液的缓冲能力、沉积速度以及所得镀层性能的影响进行了研究。

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来源
《无机化学学报》|2007年第2期|295-299|共5页
作者
应华根; 罗伟; 严密;
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作者单位

浙江大学硅材料国家重点实验室,杭州,310027;

浙江大学硅材料国家重点实验室,杭州,310027;

浙江大学硅材料国家重点实验室,杭州,310027;

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正文语种 chi
中图分类镍Ni;单一金属的电镀;
关键词
氟化铵; 化学镀镍磷; 缓冲能力; 镀层性能;

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