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不同氧气分压下的MOCVD法氧化锌薄膜生长

         

摘要

采用金属有机化学气相沉积方法,在不同氧气分压下,对硅衬底氧化锌薄膜材料生长做了研究.X-射线衍射方法对氧化锌薄膜的结晶质量做了比对测试.测试结果表明薄膜是沿着(002)方向生长.利用光荧光谱测试分析,对薄膜的发光特性做了研究,研究发现随着氧气分压增大,薄膜的紫外发光峰增强.通过原子力显微镜测试,对薄膜的表面形貌做了观察,发现结晶颗粒的平均粗糙度、均方根,以及平均直径随着氧气分压的增大呈现逐渐变小的趋势.

著录项

  • 来源
    《液晶与显示》 |2010年第5期|706-708|共3页
  • 作者单位

    吉林建筑工程学院,电气与电子信息工程学院,吉林,长春,130021;

    吉林建筑工程学院,电气与电子信息工程学院,吉林,长春,130021;

    吉林建筑工程学院,电气与电子信息工程学院,吉林,长春,130021;

    吉林建筑工程学院,电气与电子信息工程学院,吉林,长春,130021;

    吉林建筑工程学院,电气与电子信息工程学院,吉林,长春,130021;

    吉林建筑工程学院,电气与电子信息工程学院,吉林,长春,130021;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 TN304.2+1;
  • 关键词

    氧化锌; 薄膜; MOCVD;

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