MOCVD法氧化锌单晶薄膜生长

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• 来源
  《液晶与显示》 |2004年第2期|99-102|共4页
• 作者

  刘博阳; 杜国同; 杨小天; 赵佰军; 张源涛; 高锦岳; 刘大力; 杨树人;

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• 作者单位

  吉林大学,电子科学与工程学院,集成光电子国家联合重点实验室,吉林,长春,130021;

  吉林大学,物理学院,相干光、原子与分子光谱教育部重点实验室,吉林,长春,130021;

  吉林大学,电子科学与工程学院,集成光电子国家联合重点实验室,吉林,长春,130021;

  吉林大学,电子科学与工程学院,集成光电子国家联合重点实验室,吉林,长春,130021;

  吉林大学,电子科学与工程学院,集成光电子国家联合重点实验室,吉林,长春,130021;

  吉林大学,电子科学与工程学院,集成光电子国家联合重点实验室,吉林,长春,130021;

  吉林大学,物理学院,相干光、原子与分子光谱教育部重点实验室,吉林,长春,130021;

  吉林大学,电子科学与工程学院,集成光电子国家联合重点实验室,吉林,长春,130021;

  吉林大学,电子科学与工程学院,集成光电子国家联合重点实验室,吉林,长春,130021;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 薄膜的生长、结构和外延;薄膜的性质;
• 关键词

  氧化锌; 金属有机化学气相沉积; 薄膜; 生长;