射频等离子体辅助化学气相沉积Ti-B-N薄膜的结构与性能

著录项

• 来源
  《中国有色金属学报》 |2004年第12期|1985-1989|共5页
• 作者

  马胜利; 马青松; 牛新平; 徐可为; P Karvankova; S Veprek;

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• 作者单位

  西安交通大学,金属材料强度国家重点实验室,西安,710049;

  西安交通大学,金属材料强度国家重点实验室,西安,710049;

  西安交通大学,金属材料强度国家重点实验室,西安,710049;

  西安交通大学,金属材料强度国家重点实验室,西安,710049;

  慕尼黑工业大学,无机材料化学研究所,慕尼黑,D-85747;

  慕尼黑工业大学,无机材料化学研究所,慕尼黑,D-85747;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 金属复层保护;
• 关键词

  射频等离子体辅助化学气相沿积; Ti-B-N薄膜; 硬度; 耐磨性;