用PECVD工艺制备功能装饰氧化硅薄膜的性能

张栋; 柯培玲; 汪爱英; 王香勇; 智理

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用PECVD工艺制备功能装饰氧化硅薄膜的性能

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用PECVD技术制备氧化硅薄膜,研究了生成样品的位置对薄膜成分、结构和性能的影响,探讨了制备兼具高透光性和耐刮擦性的功能装饰氧化硅薄膜的方法。结果表明,在阳极位置生成的薄膜具有Si(CH3)nO有机氧化硅结构,在380~780 nm波长范围内透光率高达90%~98%,但是薄膜的结构疏松,硬度仅为2 GPa。提高制备温度可使薄膜硬度提高至6 GPa,但是透光率略有降低;在阴极位置生成的薄膜具有无机氧化硅复合非晶碳结构,薄膜结构致密,硬度可达15 GPa,但是在380~780 nm波长范围内透光性差;增加O2反应气体可促使碳与氧反应生成二氧化碳,非晶碳结构消失,薄膜透光率提高到99%,但是硬度降低到9 GPa。

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来源
《材料研究学报》 |2019年第6期|467-474|共8页
作者
张栋; 柯培玲; 汪爱英; 王香勇; 智理;
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作者单位

中国科学院宁波材料技术与工程研究所;

中国科学院海洋新材料与应用技术重点实验室;

浙江省海洋材料与防护技术重点实验室;

宁波315201;

宁波中骏森驰汽车零部件股份有限公司;

慈溪315300;

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正文语种 chi
中图分类功能材料;
关键词
材料表面与界面; 氧化硅薄膜; 等离子体增强化学气相沉积; 功能装饰;

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