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顾柏春; 邓弼兴; 张世华;
中国科学院半导体研究所;
机译:电热碳薄膜的性能准备从SU-8远紫外线光刻胶曝光和碳化
机译:使用远紫外光谱浏览器观察漫远的远紫外背景*
机译:使用衰减全反射远紫外光谱仪观测液相中正构烷烃和支链烷烃的远紫外光谱
机译:用于远紫外线和远紫外线的多层涂料
机译:遥远的物体望远镜:远紫外线源远紫外线光谱的初步观察。
机译:在具有不同修复能力的大肠杆菌菌株中近紫外光(313-405 nm)和远紫外光(254 nm)之间的诱变和相互作用比较。
机译:近紫外(313-405纳米)与远紫外(254〜405纳米)和远紫外(254纳米)辐射之间的比较诱变和相互作用,具有不同的修复能力
机译:更新sEmaTECH 0.5 Na极紫外光刻(EUVL)微场曝光工具(mET)。会议:spIE - 极紫外(EUV)光刻V,加利福尼亚州圣何塞,2014年2月23日;相关信息:Journal.publication日期:90481m。
机译:在邻萘醌二叠氮化物和双叠氮化物的光刻胶中通过UV成像曝光和远紫外整体曝光形成正性抗蚀剂图案的方法
机译:远紫外辐射或电子束作为曝光光源的光照相术中有用的辐射敏感树脂组合物
机译:适用于使用300 NM或更少的远紫外线作为光源的浸没曝光设备的正性抗蚀剂组合物以及使用该组合物的图案化方法
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