物理显影工艺对集成电路照相掩模的改善

邓志全

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＜正＞菲利浦研究实验室研制成一种新的物理显影版（PD—Platte）,从而获得较高的溶解度及较好的边缘清晰度,此外,重复性也有重大的改进。原则上,物理显影工艺完成了这目的,因为在物理显影工艺中运用了高吸附作用的光敏化合作用,在只有1.6微米厚层中分散。曝光后形成的潜象通过物理显影工艺在两个处理阶段中作金属

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来源
《微电子学》 |1973年第2期|71-72|共2页
作者
邓志全;
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