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钟丽云; 吕晓旭; 张文碧; 熊秉衡; 杨齐民; 宫爱玲;
云南工业大学激光研究所;
浮雕全息图; 刻蚀深度; 相位调制度; 光刻胶;
机译:数字浮雕型高质量全息图元素的制作
机译:气体流速对CH_2F_2 / N_2 / Ar电容耦合等离子体中具有极紫外光刻胶图案的氮化硅刻蚀特性的影响
机译:制作具有预期凹槽深度的光刻胶浮雕全息图
机译:大型阵列自动写扫描光刻胶制作及检测系统的开发。
机译:明场全息图:跨模态深度学习可使用单个全息图实现具有明场对比度的快照3D成像
机译:环氧光刻胶反应离子刻蚀的刻蚀速率优化
机译:用于交叉电容器结构制作的厚负光刻胶的优化。
机译:全息图记录材料的组成,浮雕全息图的制作方式和
机译:通过感应进行电接地研究的方法,其预期的预期深度之一与相应尺寸的erdspule的预期结合深度以及更小的深度,从存储中不会受到明显影响
机译:光刻胶组合物,形成光刻胶浮雕图像的方法和具有该光刻胶组合物涂层的制品
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