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LPCVD系统淀积多晶硅薄膜的发雾分析

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摘要

叙述了采用LPCVD系统淀积多晶硅薄膜的机理 ,分析了在淀积多晶硅薄膜过程中引起发雾的因素 ,指出了保持LPCVD系统的洁净能有效消除在淀积多晶硅薄膜过程中出现的发雾现象。

著录项

来源
《半导体光电》 |2002年第6期|421-423|共3页
作者
张顾万; 龙飞; 阙蔺兰;
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作者单位

重庆光电技术研究所;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类光学集成电路（集成光路）;
关键词
LPCVD; 淀积; 多晶硅; 发雾;

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