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杨杰; 王茺; 欧阳焜; 陶东平; 杨宇;
昆明理工大学冶金与能源工程学院;
云南大学工程技术研究院光电信息材料研究所;
离子束溅射; Ge/Si多层膜; 沉积温度; 生长停顿;
机译:离子束溅射在Si衬底和Si / Ge超晶格上生长Ge膜
机译:离子束溅射Si基板和Si / Ge超晶格GE膜的生长过程
机译:离子束溅射生长NC-GE / A-Si多层结构和光学性质的相关性
机译:通过90度离轴溅射原位生长的高临界转变温度超导薄膜和多层膜的合成和性能。
机译:退火温度对Si(100)上电沉积Ge的熔融生长获得的SixGe1-x的成分和应变的影响
机译:离子束溅射生长nc-Ge / a-si多层膜的结构与光学性质的相关性
机译:si和Ge的低温外延生长及直接离子束沉积(IBD)制备同位素异质结构
机译:高纯Si-Ge合金靶材及其制造方法,以及溅射的高纯Si-Ge膜
机译:Si 1-XY Sub> GE X Sub> C Y Sub>和Si 1-Y Sub> C 的外延和多晶生长通过UHV-CVD在Si上形成Y Sub>合金层
机译:Si 1-xy Sub> Ge x Sub> C y Sub>和Si 1-y Sub> C 的外延和多晶生长UHV-CVD在Si上形成y Sub>合金层
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