氧离子束辅助激光制备具有织构的YBCO薄膜

王忠柯; 黄新堂; 王又清; 王秋良; 陈清明

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应用氧离子束辅助准分子脉冲激光沉积薄膜技术，先在ＮｉＣｒ合金（Ｈａｓｔｅｌｌｏｙｃ－２７５）基底上在室温下淀积具有平面织构的钇稳锆（ＹＳＺ）缓冲层薄膜，再在ＹＳＺ／ＮｉＣｒ基底上在７５０℃下制备具有平面织构和高临界电流密度的ＹＢａ２Ｃｕ３Ｏ７－Ｘ（ＹＢＣＯ）薄膜、ＹＳＺ和ＹＢＣＯ薄膜都为ｃ－轴取向和平面织构的，ＹＳＺ（２０２）和ＹＢＣＯ（１０３）的Ｘ射线扫描衍射峰的全宽半峰值分别为１８＇和１１＇．ＹＢＣＯ薄膜的临界温度和临界电流密度分别为９０Ｋ（Ｒ＝０）和７．９ｘ１０５Ａ／ｃｍ２（７７Ｋ，零磁场）．

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来源
《材料研究学报》 |2000年第5期|493-496|共4页
作者
王忠柯; 黄新堂; 王又清; 王秋良; 陈清明;
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作者单位

华中理工大学激光技术国家重点实验室;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜技术;
关键词
准分子脉冲激光; YBCO薄膜; NiCr合金基底; 织构;

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