氧化物晶体与薄膜最新研究进展(英文)

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• 来源
  《人工晶体学报》 |2011年第3期|789-795|共7页
• 作者

  木村秀夫; 赵洪阳; 姚启文; 程振祥; 王小林;

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• 作者单位

  日本国立物质材料研究机构;

  筑波3050047;

  澳大利亚卧龙岗大学电子材料研究所;

  新南威尔士州2519;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 TN304.053;
• 关键词

  体晶体; 薄膜; 压电性; 铁电性; 多铁性; 光催化;