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杨李茗; 虞淑环; 许乔; 舒晓武; 杨国光;
浙江大学现代光学仪器国家重点实验室;
反应离子束蚀刻; 衍射; 光学元件; 蚀刻工艺;
机译:光学元件生产中的离子束蚀刻技术
机译:光纤到波导耦合的聚焦离子束在光纤顶部连续浮雕制作衍射光学元件-微透镜的设计与制造
机译:使用离子束蚀刻提高RIE蚀刻衍射光学元件表面
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:基于衍射光学元件的光学信息存储传感系统设计研究
机译:制造衍射和全息图光学元件时玻璃等离子体化学蚀刻的实验研究
机译:在氯/氩中的Gaas的反应离子束蚀刻期间原位监测蚀刻副产物
机译:制备衍射光学元件的方法,以及用于制造衍射光学元件的模具,以及由制造衍射光学元件的方法和光学系统制造的衍射光学元件,以及应用该衍射方法的光学装置和装置,
机译:衍射光学元件,配备有衍射光学元件的光学系统,衍射光学元件的制造,曝光设备(包括配备有衍射光学元件的光学系统)和通过使用曝光设备制造的设备
机译:衍射光学元件,衍射光学元件的多面体,管理衍射光学元件的方法以及检查衍射光学元件的方法
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