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衍射光学元件的反应离子束蚀刻研究

         

摘要

本文提出了一种制作衍射光学元件的新方法———反应离子束蚀刻法对此技术研究的结果表明:反应离子束蚀刻法具有高蚀刻速率、蚀刻过程各向异性好、蚀刻参数控制灵活等特点,对于衍射光学元件和微光学元件的精细结构制作十分有利本文详细总结了反应离子束蚀刻过程中各工艺参数对蚀刻速率的影响。

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