金刚石薄膜界面状态及其生长过程的研究

卢鸿修; 胡晋生; 朱静; 戚立昌; 杨佩春; 玄真武; 浦新; 侯立

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本文以Si(100)为衬底,利用电子增强式化学汽相沉积方法生长的金刚石膜为试样,用透射电镜(Cross-seotion制样)和扫描电镜观测了金刚石薄膜界面状态及其生长过程。研究表明:界面是一种非晶态的碳的过渡层,其衍射晕环的中心所对应的面间距与金刚石相近。界面的边缘或平整或凹凸不平,参差不齐,宽度在0.2-0.8μm之间。界面上所生长的金刚石薄膜由胚芽层和晶粒层组成;胚芽层有三种形态;同一试样上的不同部位或不同试样上的界面状态及生长过程是不同的。

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来源
《人工晶体学报》 |1991年第1期|27-32|共6页
作者
卢鸿修; 胡晋生; 朱静; 戚立昌; 杨佩春; 玄真武; 浦新; 侯立;
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作者单位

钢铁研究总院;

人工晶体研究所;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类碳C;
关键词
金刚石; 薄膜; 非晶态碳; 界面状态;

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