193nm浸没式光刻材料的研究进展

何鉴; 高子奇; 李冰; 郑金红; 穆启道

首页> 中文期刊> 《半导体技术》 >193nm浸没式光刻材料的研究进展

193nm浸没式光刻材料的研究进展

开具论文收录证明 >>

期刊封面封底目录下载 >>

文献代查 >>

页面导航

摘要
著录项
相似文献
相关主题

摘要

介绍了193 nm浸没式光刻技术的兴起和面临的挑战。在所涉及的材料方面,对第一代、第二代及第三代的浸没液体进行了介绍,对顶部涂料的类型及其应用进行了归纳概述。并对顶部涂料存在的问题进行了阐述。对光刻胶材料中涉及的产酸剂、主体树脂及光刻胶应用方面进行了综述,并重点描述了无须顶部涂层的光刻胶,最后对193 nm浸没式光刻材料发展趋势作了展望。

著录项

来源
《半导体技术》 |2008年第9期|743-747|共5页
作者
何鉴; 高子奇; 李冰; 郑金红; 穆启道;
展开▼
作者单位

北京科华微电子材料有限公司;

展开▼
原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类光刻、掩膜;
关键词
193; nm浸没式光刻; 浸没液体; 顶部涂料; 光刻胶;

相似文献

中文文献
外文文献
专利

1. Nikon 39nm图形技术取得进展欲占193nm浸没式光刻半壁江山 [J] . 章从福 . 半导体信息 . 2007,第002期
2. 193nm浸没式光刻技术发展现状及今后难点 [J] . 电子工业专用设备编辑部 . 电子工业专用设备 . 2006,第004期
3. 落水山鸡变凤凰——193nm浸没式光刻技术之回顾与展望 [J] . 汪辉 . 集成电路应用 . 2006,第009期
4. 用于浸没式工艺的光刻胶研究进展 [J] . 何鉴 ,盛瑞隆 ,穆启道 . 影像科学与光化学 . 2009,第005期
5. 浸没式光刻机浸没流场的仿真与试验 [J] . 傅新 ,赵金余 ,陈晖 . 机械工程学报 . 2011,第2期
6. 浸没式光刻机浸液控制技术研究 [C] . 陈晖 ,陈文昱 ,傅新 . 第六届全国流体传动与控制学术会议 . 2010
7. 浸没式光刻机浸没单元微环境恒温气浴技术的研究 [A] . 曾强辉 . 2018

193nm浸没式光刻材料的研究进展

摘要

著录项

相似文献

相关主题

期刊订阅