DFM工具有助于实现“光刻友好”布局

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＜正＞明导国际（Mentor Graphics）认为,其最新的DFM（可制造性设计,design- for-manufacturing）将对集成电路设计人员设计“光刻友好”的集成电路布局提供帮助。该公司的新型Calibre LFD（光刻友好设计。li- thography-friendly design）是一种类似于DRC/LVS（设计规则检查/低压信令,design- rule-checking/low-voltage-signaling）的工具。不过,Calibre LFD并不检查布局是否符合设计规则（例如线迹宽度和间距）与早期原理图,而是检查布局是否符合描述给定生产线剂量和焦点的光刻制造规则。该工具集成了与OPCVerify一样的引擎,它采用的是一种类似OPC（光学接近修正,optical-proximity- correction）的技术,是Mentor在1月份为光刻设计人员推出的。

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《电子设计技术》 |2006年第7期|46-46|共1页
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